您的位置： 专家智库 > >

崔嵩

作品数：1 被引量：4H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十三研究所更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铝
  • 1篇氮化铝陶瓷
  • 1篇陶瓷
  • 1篇粉末

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇黄岸兵
  • 1篇崔嵩

传媒

  • 1篇化工新型材料

年份

  • 1篇1992
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
氮化铝陶瓷的制造及应用被引量：4
1992年
一、前言微电子学的发展趋势是器件多功能化、小型化。器件的复杂性将导致芯片尺寸增大和集成度提高,亦使芯片的功率耗散增加,片子的散热便成为关键问题之一。通过基片散热是一种有效途径。AlN陶瓷由于具有热导率高、热膨胀系数与硅接近、电性能优良、机械性能好、无毒等特性,被认为是最理想的基片材料,因此备受关注。
崔嵩黄岸兵贺相传
关键词：氮化铝陶瓷粉末
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0