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刘云
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桂林电子科技大学
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相关领域:
一般工业技术
文化科学
自动化与计算机技术
电气工程
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合作作者
李海鸥
桂林电子科技大学
肖功利
桂林电子科技大学
张法碧
桂林电子科技大学
陈永和
桂林电子科技大学
李琦
桂林电子科技大学
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桂林电子科技...
作者
14篇
刘云
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张法碧
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肖功利
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李海鸥
6篇
李琦
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陈永和
年份
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2021
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一种二维材料阻变存储器及其制备方法
本发明公开了一种二维材料阻变存储器及其制备方法,相比于化学气相沉积制备的阻变存储器具有制备方便和对设备没有依赖性等优势,对于滴铸、旋涂等方法制备的阻变存储器又具有均匀性好,重复性好,制备简单等优势。利用本发明所述方法制备...
孙堂友
涂杰
刘云
石卉
李海鸥
傅涛
刘兴鹏
王阳培华
肖功利
张法碧
一种基于过渡金属硫族化合物堆垛式忆阻器
本实用新型公开了一种基于过渡金属硫族化合物堆垛式忆阻器,包括衬底层、底电极层、第一阻变层、氧化层、第二阻变层和顶电极层。通过基于过渡金属硫族化合物的3层堆垛结构,一方面可以发挥该族二维材料的优势,优良的机械性和高透性使器...
孙堂友
石卉
涂杰
刘云
李海鸥
傅涛
刘兴鹏
陈永和
肖功利
李琦
张法碧
文献传递
一种双光栅高效太阳能电池
本发明公开了一种双光栅高效太阳能电池,所述双光栅高效太阳能电池包括晶硅表面纳米结构光栅、背金属纳米结构光栅、吸收层和背金属层,所述晶硅表面纳米结构光栅位于所述吸收层的上表面,所述背金属纳米结构光栅位于所述背金属层的上表面...
孙堂友
石卉
曹乐
李海鸥
傅涛
刘兴鹏
陈永和
肖功利
李琦
张法碧
刘云
涂杰
一种基于AAO纳米结构光刻掩膜版的制备方法
本发明公开了一种可以在目标基片制备出与AAO模板一致的分布均匀、形状统一的纳米结构的基于AAO纳米结构光刻掩膜版的制备方法。该基于AAO纳米结构光刻掩膜版的制备方法首先以进行PMMA旋涂的AAO多孔纳米结构为基底,在AA...
孙堂友
刘云
涂杰
石卉
李海鸥
傅涛
刘兴鹏
陈永和
肖功利
李琦
张法碧
文献传递
一种平面型十字交叉阵列结构的阻变存储器及制备方法
本发明公开了一种平面型十字交叉阵列结构的阻变存储器及制备方法,将所述底电极、所述第一电阻转变层和第二电阻转变层置于所述绝缘基底的所述凹槽中,解决了采用普通的十字交叉阵列的阻变器存在的边缘效应问题。通过对所述底电极图案化修...
孙堂友
宁涛华
刘云
石卉
李海鸥
傅涛
刘兴鹏
王阳培华
肖功利
张法碧
文献传递
一种以h-BN作为中间插层的忆阻器
本发明公开了一种以六方氮化硼(h‑BN)作为中间插层的忆阻器,所述以h‑BN作为中间插层的忆阻器包括衬底、底电极层、高空位介质层、中间插层、低空位介质层和顶电极层,以二维材料h‑BN作为中间插层的结构,夹在所述高空位介质...
孙堂友
涂杰
石卉
刘云
李海鸥
傅涛
刘兴鹏
陈永和
肖功利
李琦
张法碧
文献传递
一种平面型十字交叉阵列结构的阻变存储器
本实用新型公开了一种平面型十字交叉阵列结构的阻变存储器,所述底电极于所述凹槽的内底壁,所述第一电阻转变层位于所述底电极的顶端,所述第二电阻转变层位于所述第一电阻转变层的顶部,所述顶电极位于所述第二电阻转变层的顶部。将所述...
孙堂友
宁涛华
刘云
石卉
李海鸥
傅涛
刘兴鹏
王阳培华
肖功利
张法碧
文献传递
一种以h-BN作为中间插层的忆阻器
本发明公开了一种以六方氮化硼(h‑BN)作为中间插层的忆阻器,所述以h‑BN作为中间插层的忆阻器包括衬底、底电极层、高空位介质层、中间插层、低空位介质层和顶电极层,以二维材料h‑BN作为中间插层的结构,夹在所述高空位介质...
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一种二维材料阻变存储器及其制备方法
本发明公开了一种二维材料阻变存储器及其制备方法,相比于化学气相沉积制备的阻变存储器具有制备方便和对设备没有依赖性等优势,对于滴铸、旋涂等方法制备的阻变存储器又具有均匀性好,重复性好,制备简单等优势。利用本发明所述方法制备...
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一种二维材料成膜方法
本发明公开了一种二维材料成膜方法,通过超声并静置使所述二维材料膜更加均匀,并通过排液将二维材料膜均匀的、大面积的、无伤的和低成本的转移在所述金属衬底上面。由于所述溶液都是可挥发的溶剂,因此在制备过程中并不会产生其他的杂质...
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