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刘东

作品数：9 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 9篇中文专利

主题

  • 3篇真空系统
  • 3篇前驱物
  • 3篇温度梯度
  • 3篇化学吸附
  • 3篇硅片
  • 3篇硅片表面
  • 2篇进气
  • 2篇半导体
  • 2篇沉积速率
  • 1篇灯组
  • 1篇电路
  • 1篇液体表面张力
  • 1篇支撑柱
  • 1篇支承
  • 1篇排气
  • 1篇排气法
  • 1篇漂洗
  • 1篇气相沉积
  • 1篇热元件
  • 1篇轴承

机构

  • 9篇北京七星华创...

作者

  • 9篇刘东
  • 4篇李一吾
  • 3篇常青
  • 3篇彭文芳
  • 3篇潘龙
  • 3篇魏景峰
  • 3篇龙睿芬
  • 1篇崔娟娟
  • 1篇任鑫
  • 1篇李春雷
  • 1篇陈添明
  • 1篇兰云峰
  • 1篇刘俊豪

年份

  • 1篇2016
  • 5篇2014
  • 3篇2013
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
风量调节装置
本实用新型公开了一种风量调节装置，包括沿风道的轴向设有开口的支承体、可滑动地改变与所述开口重合部分面积的控制滑板、以及驱动所述控制滑板滑动的滑动调节件。本实用新型提供的风量调节装置，可在有易燃易爆气体存在的环境下使用；在...
刘东崔娟娟李一吾刘俊豪
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一种衬底单面漂洗装置
本实用新型涉及半导体集成电路制造领域，公开了一种衬底单面漂洗装置。该装载固定工具包括：第一漂洗槽、第二漂洗槽、第三漂洗槽、晾干槽和支架；所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的顶部开口处可拆卸地安装有...
陈添明刘东李春雷
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原子层沉积设备
1.本外观设计产品的名称：原子层沉积设备。;2.本外观设计产品的用途：利用原子层沉积技术制备薄膜。;3.本外观设计的设计要点：在于产品的整体形状及用管道连接的两机箱分体结构。;4.本外观设计为大型设备,底面不常见，故省略...
刘东魏景峰李一吾龙睿芬
一种密封装置
本实用新型公开了一种密封装置，包括反应腔室、位于反应腔室两端的进气法兰组件、排气法兰组件以及关节轴承，所述进气法兰组件与反应腔室之间设有密封圈，所述排气法兰组件与反应腔室的接触面之间设有密封圈，所述排气法兰组件与所述关节...
魏景峰李一吾龙睿芬刘东
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一种进气分配装置
本实用新型涉及半导体工艺设备技术领域，尤其涉及一种进气分配装置。该进气分配装置包括具有导热功能的集成块和用于为集成块加热的加热元件，集成块内设有多个流道，加热元件设置于集成块中，流道与气源端连接，且还与腔室连接。本实用新...
兰云峰任鑫刘东
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用于原子层薄膜沉积的反应装置
本实用新型提供一种用于原子层薄膜沉积的反应装置，属太阳能电池制造装配和加工技术领域，包括依次连接的反应沉积腔、反应排空腔和真空系统；所述反应沉积腔内包括硅片承载单元、加热单元、前驱物进料单元、吹扫气体进气单元；本实用新型...
潘龙刘东彭文芳常青
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一种可调节的红外线灯组及加热装置
本实用新型公开了一种可调节的红外线灯组，涉及半导体工艺技术领域。所述灯组包括：固定管、加热器、角度调节架、纵向调节架；固定管固定在外延腔室内；加热器设置在固定管的内部；角度调节架的中部连接加热器，下部滑动连接纵向调节架的...
魏景峰刘东龙睿芬李一吾
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一种用于原子层薄膜沉积的反应装置及方法
本发明提供一种用于原子层薄膜沉积的反应装置及方法，属太阳能电池制造装配和加工技术领域，包括依次连接的反应沉积腔、反应排空腔和真空系统；所述反应沉积腔内包括硅片承载单元、加热单元、前驱物进料单元、吹扫气体进气单元；本发明通...
潘龙刘东彭文芳常青
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一种用于原子层薄膜沉积的反应装置及方法
本发明提供一种用于原子层薄膜沉积的反应装置及方法，属太阳能电池制造装配和加工技术领域，包括依次连接的反应沉积腔、反应排空腔和真空系统；所述反应沉积腔内包括硅片承载单元、加热单元、前驱物进料单元、吹扫气体进气单元；本发明通...
潘龙刘东彭文芳常青
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