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李春雷

作品数：13 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 13篇中文专利

领域

  • 1篇理学

主题

  • 6篇衬底
  • 5篇钝化
  • 4篇预热
  • 4篇原子层沉积
  • 4篇三氧化二铝
  • 4篇前驱物
  • 3篇钝化膜
  • 3篇光电转换
  • 3篇光电转换效率
  • 3篇硅衬底
  • 3篇薄膜生长
  • 2篇排气
  • 2篇排气系统
  • 2篇批处理
  • 2篇气体
  • 2篇气体加热
  • 2篇装卸
  • 2篇铝源
  • 2篇进料
  • 2篇开槽

机构

  • 13篇北京七星华创...

作者

  • 13篇李春雷
  • 9篇赵星梅
  • 3篇常青
  • 3篇孙月峰
  • 3篇彭文芳
  • 3篇兰云峰
  • 2篇王启元
  • 1篇刘东
  • 1篇陈添明
  • 1篇何金正

年份

  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 4篇2014
  • 6篇2012
共 13 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
可扩展的反应腔室
本实用新型公开了一种可扩展的反应腔室，涉及机械设计技术领域，所述反应腔室包括：前门板和后门板，所述前门板和后门板之间设有至少一个模块化腔室。本实用新型通过在前门板、后门板和所述前门板和后门板之间设有的至少一个模块化腔室上...
彭文芳李春雷常青克雷格·伯考
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一种三氧化二铝薄膜的原子层沉积制备方法
本发明属于半导体部件领域，提供一种三氧化二铝薄膜的原子层沉积制备方法，包括步骤：1）在原子层沉积反应腔室中装载硅衬底，将所述反应腔室抽真空；2）以三甲基铝为铝源、H<Sub>2</Sub>O为氧源，进行原子层沉积；3）以...
李春雷赵星梅兰云峰孙月峰
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原子层沉积技术制备薄膜的实现方法
本发明公开了一种原子层沉积技术制备薄膜的实现方法，提出了一种自扩散式ALD技术，利用反应腔室出气阀门的开闭，来控制反应源在反应腔室内的扩散，通过在通入反应源进行工艺过程中减小出气阀门开度或将其关闭，以增加反应腔室内压力，...
李春雷李东旗何金正
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用于实现原子层沉积工艺的设备
本发明公开了一种用于实现原子层沉积工艺的设备，涉及原子层沉积技术领域，所述设备包括：反应模块，所述反应模块进一步包括：反应腔室、加热单元、预热腔室、预热单元、前驱物进料单元、抽气单元及控制单元；预热单元，用于对预热腔室中...
李春雷克雷格·伯考盛金龙赵星梅常青
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一种衬底单面漂洗装置
本实用新型涉及半导体集成电路制造领域，公开了一种衬底单面漂洗装置。该装载固定工具包括：第一漂洗槽、第二漂洗槽、第三漂洗槽、晾干槽和支架；所述第一漂洗槽、所述第二漂洗槽、所述第三漂洗槽和所述晾干槽的顶部开口处可拆卸地安装有...
陈添明刘东李春雷
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一种应用原子层沉积技术制备薄膜的实现方法
本发明公开了一种应用原子层沉积技术制备薄膜的实现方法，通过以抽真空式或变流量式的不同ALD工艺方式，改变反应腔室内的吹扫气体进气量，在腔室内形成气流场的扰动，可有效提高对过剩反应源及反应副产物的吹扫效果，降低薄膜生长周期...
李春雷赵雷超胡彩丰
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一种应用原子层沉积技术制备三氧化二铝钝化薄膜的方法
本发明公开了一种应用原子层沉积技术制备三氧化二铝钝化薄膜的方法，所述方法包括：预热步骤，将衬底承载器放入预热腔室中，以热空气为介质对衬底进行预热；温度稳定步骤，待衬底承载器达到预定温度后，将衬底承载器转移至沉积腔室，以热...
王启元克雷格·伯考李春雷赵星梅
一种三氧化二铝薄膜的原子层沉积制备方法
本发明属于半导体部件领域，提供一种三氧化二铝薄膜的原子层沉积制备方法，包括步骤：1）在原子层沉积反应腔室中装载硅衬底，将所述反应腔室抽真空；2）以三甲基铝为铝源、H<Sub>2</Sub>O为氧源，进行原子层沉积；3）以...
李春雷赵星梅兰云峰孙月峰
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一种在线原子层沉积装置和沉积方法
一种在线原子层沉积装置，包括基板送料系统、加工腔室、前驱物送料系统、至少一个装卸元件、提升元件、控制与检测系统、排气系统，其中所述基板送料系统将基板送入所述加工腔室，所述前驱物送料系统设置在加工腔室侧面，所述装卸元件设置...
赵星梅盛金龙彭文芳李春雷
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一种在线原子层沉积装置
本实用新型公开了一种在线原子层沉积装置，包括基板送料系统、加工腔室、前驱物送料系统、至少一个装卸元件、提升元件、控制与检测系统、排气系统，其中所述基板送料系统将基板送入所述加工腔室，所述前驱物送料系统设置在加工腔室侧面，...
赵星梅盛金龙彭文芳李春雷
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