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顾志清

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：吉林大学更多>>
相关领域：一般工业技术金属学及工艺化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇氮化
  • 5篇铪
  • 2篇原子
  • 2篇原子数
  • 2篇磷化
  • 2篇膜性能
  • 2篇红外
  • 2篇红外窗口
  • 2篇红外窗口材料
  • 2篇钍
  • 2篇钽
  • 2篇玻璃基
  • 1篇氮化物
  • 1篇电学
  • 1篇离子轰击
  • 1篇化物
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇光电
  • 1篇光学

机构

  • 5篇吉林大学

作者

  • 5篇顾志清
  • 4篇胡超权
  • 4篇郑伟涛

年份

  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2015
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
一种具有立方磷化钍单相结构的氮化铪膜及其制备方法
本发明涉及一种具有立方磷化钍单相结构的氮化铪膜及其制备方法，其特征在于膜的氮含量的范围为57.1％‑61.5％，膜具有的压应力为2.0‑4.0GPa，其通过制备过程中氩离子轰击实现。采用射频反应溅射法，以高纯Hf为靶源，...
胡超权郑伟涛顾志清
文献传递
一种提高岩盐结构氮化铪膜性能的方法
本发明涉及一种提高岩盐结构氮化铪膜性能的方法，引入适量钽的岩盐结构氮化铪膜的化学式为Hf<Sub>1‑y</Sub>Ta<Sub>y</Sub>N，按各成分的原子数百分含量计，氮含量为50％，铪与钽的总含量为50％，钽占...
胡超权郑伟涛顾志清
文献传递
一种具有立方磷化钍单相结构的氮化铪膜及其制备方法
本发明涉及一种具有立方磷化钍单相结构的氮化铪膜及其制备方法，其特征在于膜的氮含量的范围为57.1％-61.5％，膜具有的压应力为2.0-4.0GPa，其通过制备过程中氩离子轰击实现。采用射频反应溅射法，以高纯Hf为靶源，...
胡超权郑伟涛顾志清
一种提高岩盐结构氮化铪膜性能的方法
本发明涉及一种提高岩盐结构氮化铪膜性能的方法，引入适量钽的岩盐结构氮化铪膜的化学式为Hf<Sub>1‑y</Sub>Ta<Sub>y</Sub>N，按各成分的原子数百分含量计，氮含量为50％，铪与钽的总含量为50％，钽占...
胡超权郑伟涛顾志清
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氮化铪和氮化铪钽薄膜的结构辨认与光电性质研究
过渡金属氮化物薄膜(TMN_x,TM=Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W)因为具有优异的光学、电学和力学性质,而被广泛应用于航空航天、微电子器件、汽车工业、地质钻探、切割和加工工具等领域。在这些应用中,光学...
顾志清
关键词：氮化物光学电学
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