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唐丽娟

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：华星光电技术有限公司更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇国内会议论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇低温多晶硅
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇准分子
  • 1篇面板
  • 1篇激光
  • 1篇激光退火
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇非晶硅
  • 1篇非晶硅薄膜
  • 1篇分子
  • 1篇OLED面板
  • 1篇PECVD法
  • 1篇参数测试
  • 1篇AM

机构

  • 2篇华星光电技术...

作者

  • 2篇胡国仁
  • 2篇戴天明
  • 2篇唐丽娟
  • 2篇李子健
  • 1篇李亚

传媒

  • 2篇2014中国...

年份

  • 2篇2014
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
5.5英寸低温多晶硅CMOS AMOLED面板工艺研究
本文研究了LDD结构低温多晶硅(LTPS)CMOS的薄膜晶体管的相关制程,其经过准分子激光退火之后的多晶硅的晶粒大小约为0.30um.分析了NTFT的迁移率和漏电流,在不同的低掺杂漏极(LDD)离子植入条件下的变化关系....
戴天明徐源竣胡国仁汤富雄李子健唐丽娟许宗义
关键词：低温多晶硅参数测试
文献传递
PECVD法改善非晶硅薄膜结晶效果的研究
实验采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法在玻璃衬底上制备非晶硅(a-Si)薄膜,再经准分子激光退火(ELA)使其结晶为多晶硅(Poly-Si).通过分析多晶硅薄膜的晶粒大小与表面粗糙度来研究射频功率、电极板间距、...
唐丽娟徐源竣胡国仁戴天明李子健汤富雄李亚许宗义
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