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王大森

作品数:73 被引量:16H指数:3
供职机构:中国兵器科学研究院更多>>
发文基金:国家科技重大专项宁波市自然科学基金内蒙古自治区自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺机械工程自动化与计算机技术文化科学更多>>

文献类型

  • 61篇专利
  • 11篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 6篇金属学及工艺
  • 6篇机械工程
  • 5篇自动化与计算...
  • 4篇文化科学
  • 3篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 2篇化学工程
  • 2篇动力工程及工...
  • 1篇矿业工程
  • 1篇石油与天然气...

主题

  • 27篇光学
  • 25篇光学元件
  • 23篇离子束
  • 10篇抛光
  • 9篇离子
  • 9篇离子束加工
  • 7篇离子源
  • 6篇面形
  • 6篇大口径
  • 5篇溅射
  • 5篇法拉第
  • 5篇大口径光学元...
  • 4篇定位装置
  • 4篇真空室
  • 4篇去除函数
  • 4篇机床
  • 4篇发动机
  • 4篇超精
  • 4篇超精密
  • 3篇调整装置

机构

  • 73篇中国兵器科学...
  • 6篇长春理工大学
  • 5篇西安工业大学
  • 2篇南京理工大学
  • 1篇成都精密光学...
  • 1篇中国兵器工业...

作者

  • 73篇王大森
  • 59篇裴宁
  • 59篇聂凤明
  • 47篇李晓静
  • 38篇郭海林
  • 35篇张广平
  • 13篇郭成君
  • 10篇李维杰
  • 7篇吴庆堂
  • 4篇李雨鹏
  • 4篇刘敏
  • 3篇周静
  • 3篇卢文斌
  • 2篇张宁
  • 1篇朱学亮
  • 1篇刘丙才
  • 1篇付秀华
  • 1篇李晓鹏
  • 1篇田爱玲
  • 1篇齐子诚

传媒

  • 2篇光子学报
  • 2篇表面技术
  • 2篇兵器材料科学...
  • 1篇中国激光
  • 1篇光学学报
  • 1篇机床与液压
  • 1篇机械设计
  • 1篇国防制造技术

年份

  • 4篇2024
  • 10篇2023
  • 8篇2022
  • 13篇2021
  • 6篇2020
  • 12篇2019
  • 7篇2018
  • 6篇2017
  • 4篇2016
  • 3篇2015
73 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法
本发明涉及一种确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法,包括以下步骤:1)确定元件面形采样阵的采样间距和驻留时间面形的采样间距;2)等速均匀刻蚀;3)通过预测曲线确定驻留时间面形的最优延拓距离。设置边界因子,把不...
李晓静王大森张旭郭海林裴宁聂凤明
文献传递
一种射频离子源离子束束径约束器、束径控制装置及方法
本发明涉及一种射频离子源离子束束径约束器,其特征在于:所述束径约束器包括具有可供离子束穿过的中空结构的底座、多个叶片及驱动机构;所述多个叶片设于底座一端并环绕中空结构呈圆周排布,多个叶片的尾端伸入中空结构所在区域以围合形...
李晓静王大森张旭郭海林夏超翔张宁赵仕燕
文献传递
基于环摆式双面抛光法加工预测模型的去除均匀性研究
2023年
针对环摆式双面抛光难以建立稳定去除函数并进行加工面型预测这一问题,提出了基于磨粒运动学的环摆式双面抛光加工预测模型,并通过预测模型分析不同参数影响下元件表面去除均匀性,针对不同特征面型给出优化策略以指导加工实验。首先,根据环摆式双面抛光机理,探究了环摆式双面抛光中影响去除均匀性的主要因素,提出了元件上、下表面磨粒运动学模型,结合Preston方程给出了基于磨粒运动学的环摆式双面抛光去除均匀性预测模型。根据实际加工工况,分析了不同抛光均匀性影响因素下的磨粒轨迹分布与抛光去除非均匀性,最后通过加工实验验证环摆式双面抛光加工预测模型。实验结果表明:环摆式双面抛光加工预测模型的预测结果与实际加工结果基本吻合,其面型去除特征相同。元件上表面是元件去除非均匀性的主要来源,通过改变中心偏心距、径向摆动距离等参数能改变元件上表面的去除非均匀性,从而影响元件整体面型特征,并实现基于预测模型指导下元件表面面型的快速收敛。
王春阳帅闻肖博黄思玲王大森
关键词:光学设计
一种小型椭球式等离子反应腔及其制造方法
一种小型椭球式等离子反应腔及其设计方法,包括腔体、设置在腔体内的沉积室以及同轴天线,腔体为下部切边的椭球状金属腔体,椭球状金属腔体的长轴直径Z=430~440mm,短轴半径R=160~170mm,沉积室是由沉积基台与石英...
李晓静聂凤明王大森张广平裴宁张旭冯时
文献传递
一种抛光设备
一种抛光设备,包括:机架(1)、抛光头(2)、第一传感器(3)、转动件(4)和第一驱动件(5),所述抛光头(2)连接有第一连接件(21);所述第一传感器(3)用于检测加工精度或检测待抛光面的几何尺寸,其连接有第二连接件(...
郭海林王大森夏超翔张旭李晓静裴宁聂凤明张广平
文献传递
一种用于离子束加工的多品种大口径光学元件复合装置
一种用于离子束加工的多品种大口径光学元件复合装置,包括基体、用于输送光学元件的输送夹紧装置以及提升定位装置,其中提升定位装置可上下移动地设置在基体上,基体的底部左右两侧设有滑轨,输送夹紧装置可前后滑动地设置在滑轨上,滑轨...
聂凤明王大森张广平郭海林裴宁李晓静张旭周静李维杰
文献传递
用于高强韧钢连杆的连杆盖与连杆体定位面的高效深冷胀断加工方法
一种用于高强韧钢连杆的连杆盖与连杆体定位面的高效深冷胀断加工方法,步骤:1)采用激光加工的方法分别在连杆大头孔内侧两面径向加工两个对称分布的应力集中槽;2)将上述加工完应力集中槽的高强韧钢连杆放入液氮储存罐中进行深冷处理...
聂凤明王大森吴庆堂张广平李雨鹏纪淑花郭成君裴宁
文献传递
双面抛光机床抛光盘静动态特性分析
2023年
为解决传统抛光方法上下表面平行度无法保证和形成工件规律性同轴圆环痕迹的难题,文中设计了工件旋转和二维运动独立控制的大口径光学元件双面快速抛光机床。采用ABAQUS有限元软件对其关键结构件抛光盘组件的静动态特性进行了仿真分析。结果表明:加载后抛光盘最大等效应力为12.63 MPa,最大形变量为8.26μm,能够满足工作精度和工作强度的要求;通过模态仿真计算出抛光盘组件的固有频率高于79 Hz,工作中不会出现共振情况,所建立的仿真模型为抛光盘组件的研制提供了理论参考。
郭海林郭海林王大森张旭裴宁
关键词:ABAQUS静动态特性
用于方形光学元件双面快速抛光的控制系统
本发明公开了一种用于方形光学元件双面快速抛光的控制系统,包括控制器和液压传动组件,其特征在于:还包括作为液压传动组件驱动源的电动伺服组件,以及用于检测液压传动组件的压力、从而反馈给控制器以便控制电动伺服组件的压力反馈组件...
裴宁王大森聂凤明张广平李晓静刘敏
文献传递
用于高强韧钢连杆盖与连杆体脆化胀断夹紧装置
一种用于高强韧钢连杆盖与连杆体脆化胀断夹紧装置,其特征在于包括底板、定位套、定位销、定胀套、定夹头、滑台、动胀套、胀杆、动夹头及复位机构,定位套纵向设置于前述的底板的上端面;定位销设于前述定位套上并具有供连杆的小头套设的...
聂凤明王大森吴庆堂张广平纪淑花李雨鹏裴宁郭成君
文献传递
共8页<12345678>
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