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王伟

作品数：40 被引量：1H指数：1
供职机构：中国建材国际工程集团有限公司更多>>
发文基金：上海市科学技术委员会资助项目上海市科委国际合作基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术电气工程化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 33篇专利
  • 4篇期刊文章

领域

  • 5篇电气工程
  • 5篇一般工业技术
  • 4篇化学工程
  • 4篇理学
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇农业科学

主题

  • 10篇电池
  • 10篇太阳能
  • 9篇太阳能电池
  • 9篇基板
  • 8篇透明导电
  • 7篇阻隔层
  • 6篇光致
  • 6篇光致变色
  • 6篇光致变色玻璃
  • 6篇变色玻璃
  • 4篇经济型
  • 4篇可见光
  • 4篇环境友好型
  • 4篇光伏
  • 4篇高温
  • 4篇高温处理
  • 3篇制冷
  • 3篇太阳
  • 3篇退火
  • 2篇低温退火

机构

  • 37篇中国建材国际...
  • 3篇玻璃新材料创...
  • 2篇蚌埠玻璃工业...

作者

  • 37篇王伟
  • 30篇彭寿
  • 18篇魏晓俊
  • 13篇王川申
  • 8篇马立云
  • 3篇王丛笑
  • 2篇殷新建
  • 2篇官敏
  • 2篇蒋鹏飞
  • 2篇陈先祥
  • 1篇吴美平
  • 1篇杨卫明

传媒

  • 1篇硅酸盐通报
  • 1篇表面技术
  • 1篇材料导报
  • 1篇建材世界

年份

  • 2篇2024
  • 7篇2023
  • 8篇2022
  • 6篇2021
  • 7篇2020
  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2011
共 40 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种镁合金建筑模板表面耐腐蚀涂层及其制备方法
本发明公开了一种镁合金建筑模板表面耐腐蚀涂层及其制备方法，该制备方法包括如下步骤：S1：对预处理后的镁合金模板进行无铬化学转化处理，在所述镁合金模板表面形成无铬化学转化膜层；S2：在清洗干燥后的所述无铬化学转化膜层上涂覆...
曾红杰魏晓俊王川申王伟李一哲
文献传递
透明导电基板
本发明提供一种透明导电基板，以含In导电层作为主要导电层，SnO<Sub>2</Sub>阻隔层及SnO<Sub>2</Sub>保护层作为辅助导电层；通过SnO<Sub>2</Sub>阻隔层，有效防止透明支撑基底中的元素的...
彭寿王伟魏晓俊周文彩齐帅于浩曾红杰李一哲张纲张正
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抗风矩抗下沉增强增稳型光伏支架基础结构
本发明提供了一种抗风矩抗下沉增强增稳型光伏支架基础结构，包括混凝土承载单元，用于连接光伏支架与所述混凝土承载单元的支撑件，以及提高基础结构稳定性的增稳件。所述混凝土承载单元为圆柱形或方柱形。根据本发明的基础结构通过增稳件...
彭寿王伟王丛笑殷新建蒋鹏飞陈先祥
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透明导电基板的制备方法
本发明提供一种透明导电基板的制备方法，通过形成依次堆叠设置的SnO<Sub>2</Sub>阻隔层、In金属层及SnO<Sub>2</Sub>保护层，并通过进一步的退火处理，将In金属层转化为含In导电层，形成以含In导电...
彭寿王伟魏晓俊周文彩齐帅于浩曾红杰李一哲张纲张正
光致变色玻璃热处理方法
本发明提供一种光致变色玻璃热处理方法，包括以下步骤：1)、确定光致变色玻璃试样的组分和热学特征温度；2)、将光致变色玻璃试样进行第一组热处理试验；3)、对经过步骤2)热处理的光致变色玻璃试样进行光色性能测试；获得第一组热...
彭寿于浩周文彩齐帅马立云王川申魏晓俊刘晓鹏王伟于静波
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一种光伏热管理玻璃及其制备方法
本发明公开一种光伏热管理玻璃及其制备方法，所述玻璃主体表面具有包含凸起部及纳米孔的微纳结构，所述微纳结构中还包括有用于吸收紫外光和亚带隙近红外光的光吸收材料单元，所述光伏玻璃的光热管理的波谱范围为0.3～25μm。所述光...
彭寿马立云刘晓鹏王川申王伟周文彩于浩齐帅
NTO透明导电基板及其制备方法
本发明提供一种NTO透明导电基板及其制备方法，包括：透明支撑基底、增透层、阻隔层及NTO导电层，其中，增透层及阻隔层设置于透明支撑基底和NTO导电层之间。通过对氧化锡进行氮掺杂形成NTO导电层，提高氧化锡的导电性能；另外...
彭寿王伟周文彩魏晓俊齐帅于浩曾红杰李一哲张纲张正
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计算光致变色玻璃太阳能得热系数的方法
本发明涉及一种计算光致变色玻璃太阳能得热系数的方法，通过对光致变色玻璃的变暗过程和复明过程的测试，得到光致变色玻璃样品变暗过程的透射比‑时间曲线和复明过程的透射比‑时间曲线，通过测试分别得出变暗结束时刻和复明结束时刻的太...
彭寿马立云齐帅于浩周文彩王伟曾红杰刘晓鹏魏晓俊
文献传递
透明导电基板
本发明提供一种透明导电基板，以含In导电层作为主要导电层，SnO<Sub>2</Sub>阻隔层及SnO<Sub>2</Sub>保护层作为辅助导电层；通过SnO<Sub>2</Sub>阻隔层，有效防止透明支撑基底中的元素的...
彭寿王伟魏晓俊周文彩齐帅于浩曾红杰李一哲张纲张正
铜铟镓硒薄膜组件激光刻线最佳间距的研究
2016年
通过建立数学模型推导出以有效工作区宽度w为参数的功率损失方程,根据铜铟镓硒薄膜和导电膜的实际电学参数计算出了优化的w值,从而得到最佳激光刻线间距为5.56mm,进一步研究了铜铟镓硒薄膜组件激光刻线间距对输出功率损失的影响。
彭寿王丛笑杨卫明傅干华王伟吴美平
关键词：铜铟镓硒死区功率损失
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