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马丽娜

作品数：7 被引量：7H指数：1
供职机构：西安工业大学更多>>
发文基金：西安工业大学校长基金更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 7篇光刻
  • 4篇多光束干涉
  • 4篇光束
  • 3篇基片
  • 3篇激光
  • 3篇激光干涉
  • 3篇光刻系统
  • 2篇闪耀光栅
  • 2篇重合度
  • 2篇吸盘
  • 2篇光阑
  • 2篇光栅
  • 2篇干涉光刻
  • 1篇底座
  • 1篇读数
  • 1篇真空吸盘
  • 1篇透镜
  • 1篇谱线
  • 1篇谱线宽度
  • 1篇自清洁

机构

  • 7篇西安工业大学

作者

  • 7篇马丽娜
  • 6篇张锦
  • 6篇弥谦
  • 6篇蒋世磊
  • 6篇孙国斌
  • 5篇杭凌侠
  • 1篇计玮
  • 1篇杨国锋

传媒

  • 1篇光子学报

年份

  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 2篇2016
  • 2篇2015
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
一种干涉曝光简易立式基片台
本发明属于多光束干涉光刻曝光技术领域，具体涉及一种干涉曝光简易立式基片台。其价格低、体积小、重量轻、组合自由，能良好的固定和调整控制基片在多光束干涉光刻系统中完成曝光。本发明的技术方案包括底座，所述的底座上设置有六自由度...
孙国斌王玉瑾张锦弥谦蒋世磊马丽娜党小刚
文献传递
多光束干涉光刻辅助曝光装置
本发明公开了一种多光束干涉光刻辅助曝光装置，包括底座、光阑吸附底座、辅助曝光光阑、基片旋转台，所述光阑吸附底座、基片旋转台设置在底座上，所述辅助曝光光阑设置在光阑吸附底座上，所述辅助曝光光阑上设置有开孔，所述基片旋转台上...
张锦马丽娜蒋世磊孙国斌杭凌侠弥谦
采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统
本发明公开了一种采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，该激光干涉光刻系统包括光源组件、扩束准直组件、多光束分光及合束组件、基片台，所述光源组件包括相干光源、第一透镜、第二透镜、闪耀光栅，所述相干光源发出的激光束依次经第一透镜、...
张锦孙国斌蒋世磊弥谦杭凌侠马丽娜
文献传递
用于仿生自清洁微结构的干涉光刻技术研究
目前国内外在自清洁表面的人工制备方法上取得很大进展，有些技术已有商业化的应用。但是现有技术的一大共同点，是不能按照使用需求灵活调整工艺过程，从而得到所需要的表面润湿特性。因此，开发一种结构特征可控、方便有效、经济实用的方...
马丽娜
关键词：微结构激光干涉光刻接触角
入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响被引量：7
2015年
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图样的形状和周期;入射光的光强不同是降低图形对比度的主要因素.利用402nm波长激光光源进行多光束干涉光刻实验.设定激光器输出功率32mW,每两束光夹角为16°,通过控制曝光、显影工艺,双光束干涉光刻产生周期为1.4μm的光栅、点阵和孔阵结构,三光束干涉光刻产生周期为1.7μm的六边形图形阵列.该模型可为利用干涉光刻技术制备微细周期结构,提高光刻图形质量,提供一定的理论参考.
马丽娜张锦蒋世磊孙国斌杨国锋杭凌侠弥谦计玮
关键词：多光束干涉干涉光刻
多光束干涉光刻辅助曝光装置
本发明公开了一种多光束干涉光刻辅助曝光装置，包括底座、光阑吸附底座、辅助曝光光阑、基片旋转台，所述光阑吸附底座、基片旋转台设置在底座上，所述辅助曝光光阑设置在光阑吸附底座上，所述辅助曝光光阑上设置有开孔，所述基片旋转台上...
张锦马丽娜蒋世磊孙国斌杭凌侠弥谦
文献传递
采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统
本发明公开了一种采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，该激光干涉光刻系统包括光源组件、扩束准直组件、多光束分光及合束组件、基片台，所述光源组件包括相干光源、第一透镜、第二透镜、闪耀光栅，所述相干光源发出的激光束依次经第一透镜、...
张锦孙国斌蒋世磊弥谦杭凌侠马丽娜
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