陈峰
- 作品数：6 被引量：7H指数：1
- 供职机构：海南大学更多>>
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- 相关领域：一般工业技术化学工程理学更多>>
- 阻隔紫外线和防静电的节能镀膜玻璃的制备被引量：1
- 2015年
- 利用常压化学气相沉积法,以钛酸异丙酯[Ti(OC3H7)4,TTIP]和单丁基三氯化锡[C4H9SnCl3,MBTC]为前驱体、三氟乙酸[CF3COOH,TFA]为掺杂剂,在玻璃表面镀制TiO2/SnO2:F多功能复合薄膜。通过X射线衍射仪、扫描电镜和紫外-可见-近红外透射光谱等对单层TiO2薄膜和TiO2/SnO2:F复合薄膜的物相及性能进行表征分析。结果表明:单层的TiO2薄膜具有阻隔紫外和近红外的功能,随着膜层厚度的增大,近红外的反射率逐渐提高,此时TiO2薄膜表现为非晶态;对于TiO2/SnO2:F复合薄膜,综合性能表现最好,不但可以改善阻隔紫外线的性能,其紫外阻隔率从51%增加到78%,而且在中远红外区具有较高的反射率,能够达到82%以上。同时在近红外区还能够保持30%以上的反射率,最大值能达到45%左右。另外,由于其还具有一定的导电性,可以赋予镀膜玻璃防静电的功能,这对玻璃防尘具有重要意义。
- 鲍思权姜宏赖新宇赵会峰陈峰张振华
- 关键词：防静电
- 二甲基二氯化锡前驱体CVD制备SnO2∶F薄膜及其性能研究被引量：1
- 2016年
- 采用二甲基二氯化锡(DMTC)为新前驱体,通过常压CVD法在硼硅玻璃基板上制备SnO_2∶F透明导电薄膜,研究了DMTC、TFA和H_2O的含量对薄膜结构及光电性能的影响,研究表明当F/Sn物质的量比为1∶1、H2O/Sn物质的量比为3∶2时,制备出可见光透过率84.17%、方块电阻9.2Ω/□且结晶性能良好的多晶SnO_2薄膜。通过与单丁基三氯化锡(MBTC)为前驱体所制备薄膜的性能进行比较,结果表明,两种前驱体所制备薄膜均具有四方金红石结构,利用DMTC不仅可以制备出与MBTC性能相近的薄膜,同时薄膜表面更加均匀。
- 陈峰张振华赵会峰鲍思权姜宏
- 关键词：化学气相沉积法
- 模拟浮法玻璃在线CVD制备SnO_2∶Sb薄膜及其性能研究被引量：1
- 2016年
- 利用模拟在线CVD镀膜的实验设备,通过改变原料参数而在玻璃表面制备了ATO系列薄膜样品,并通过紫外-可见-近红外分光光度计、XRD、SEM及方块电阻计等测试手段研究参数变化对膜层结构与性能的影响。结果表明:不同工艺参数下,所制备的薄膜均为四方相金红石型结构;当Sb掺杂量为3wt%,Sn/H2O摩尔比为2∶1时,制备出的薄膜样品性能表现为:可见光透过率为79.25%;方块电阻为20Ω·□-1;遮蔽系数为0.66,其在保证良好采光的同时具备一定遮阳及低辐射性能,可满足市场需求。
- 崔永红张振华赵会峰陈峰刘晓娟姜宏
- 关键词：低辐射
- 水对常压CVD法制备透明导电薄膜雾度的影响
- 为制备高雾度、高透过和高导电薄膜玻璃，实验采用常压CVD法在硼硅玻璃基板上分别以单丁基三氯化锡(MBTC)、三氟乙酸(TFA)和去离子水为前驱物、掺杂剂和催化剂制备SnO2：F透明导电薄膜，并通过调节催化剂水的用量，研究...
- 陈峰姜宏赵会峰赖新宇张振华
- 水对常压CVD法制备SnO2:F透明导电薄膜雾度的影响被引量：4
- 2016年
- 为制备高雾度、高透过和高导电透明导电薄膜玻璃,采用常压CVD法在硼硅玻璃基板上分别以单丁基三氯化锡(MBTC)为前驱物、三氟乙酸(TFA)为掺杂剂、去离子水为催化剂,制备了Sn O_2:F透明导电薄膜。研究了不同水用量对薄膜雾度的影响,并分析影响雾度变化的机理。结果表明:通过调节水的用量可实现高雾度、高透过和高导电薄膜的生成。随着水用量的增加,薄膜平均晶粒尺寸、结晶度和雾度先增大后减小;当水用量为MBTC摩尔量的1.5倍时,制备出雾度为14.3%、可见光透过率为76.8%、方块电阻为3.2?/□的薄膜。水的加入和用量的调节有效的解决了雾度和透过率之间相互影响的难题。
- 陈峰张振华赵会峰赖新宇姜宏
- 关键词：水含量常压化学气相沉积雾度
- 常压CVD法制备SnO2:F薄膜及其复合薄膜的研究
- 透明导电氧化物薄膜因其优良的导电和可见光透过能力,而被应用于光伏组件、节能窗等节能环保领域,其中SnO2:F （FTO）薄膜由于其成本低、性能高和简单高效的制备工艺设备在薄膜领域研究甚广。本文通过小型在线镀膜实验设备,采...
- 陈峰
- 文献传递
