蒋涛
- 作品数：61 被引量：10H指数：2
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：中国工程物理研究院发展基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学金属学及工艺自动化与计算机技术更多>>
- 量子级联激光器的热管理研究进展被引量：3
- 2021年
- 作为目前最重要的中远红外光源,量子级联激光器(QCL)因独特的性能和频率可拓展至太赫兹(THz)的特点,成为研究的热点。对于QCL,影响其输出功率和工作温度的因素较多,其中高效散热是重要的因素。首先对中红外和太赫兹两种QCL的热管理研究进行了归纳和总结;讨论和分析了两者之间的相似和不同点,主要讨论两种激光器固体侧散热的方法,包括有源区设计、改进工艺、优化器件材料体系等方面;最后,对QCL热管理的未来研究趋势进行了分析和预测。该结果对于QCL的性能提升,特别是输出功率和工作温度的提高,具有一定的参考意义。
- 张泽涵蒋涛湛治强王雪敏罗佳文彭丽萍樊龙肖婷婷肖婷婷
- 关键词：量子级联激光器热管理太赫兹中红外
- 一种用于夹持半导体器件的夹具
- 本发明涉及一种用于夹持半导体器件的夹具，属于半导体光学电子技术领域，包括基座、支撑件、夹持件、拉杆、挡板及弹性件；支撑件固定设置于基座且设置有用于放置样品的工作端面，工作端面相对于基座的端面倾斜，工作端面设置有用于支撑样...
- 湛治强沈昌乐王雪敏蒋涛邓青华彭丽萍阎大伟王新明黎维华赵妍肖婷婷
- 文献传递
- 太赫兹量子级联激光器有源区材料生长研究
- 太赫兹量子级联激光器的有源区由千余层纳米薄膜构成，其制备要求精确控制每一层薄膜的厚度、组分和掺杂浓度。本文采用分子束外延方法，通过反射式高能电子衍射对衬底表面状态进行在线分析和生长速率标定。
- 沈昌乐王雪敏蒋涛湛治强黎维华彭丽萍吴卫东
- 关键词：太赫兹
- 晶体生长安瓿位置调节装置及系统
- 本发明提供了一种晶体生长安瓿位置调节装置及系统，涉及安瓿位置调节技术领域。一种晶体生长安瓿位置调节装置，包括支撑组件、热电偶和位置调节组件。位置调节组件通过支撑杆与支撑组件连接，用于在水平和竖直方向移动和定位支撑组件。支...
- 樊龙肖婷婷彭丽萍黎维华阎大伟吴卫东沈昌乐蒋涛湛治强
- 文献传递
- 中红外可调谐量子级联激光器研究进展
- 2024年
- 量子级联激光器(QCL)是中红外波段重要的激光光源,其中,可调谐中红外量子级联激光器具有单纵模、频率可调谐的优点,成为目前研究的热点。可调谐中红外量子级联激光器主要通过分布反馈(DFB)光栅、分布布拉格反射(DBR)光栅、外腔衍射光栅等方法实现。本文介绍了中红外量子级联激光器的基本原理,分别归纳、总结了近年来DFB、DBR可调谐量子级联激光器以及外腔可调谐量子级联激光器的研究进展,讨论了各种可调谐方法的优缺点。最后,对可调谐量子级联激光器的发展趋势进行了展望。
- 刘莹蒋涛杨奇王雪敏湛治强邹蕊矫罗佳文樊龙陈风伟吴卫东
- 关键词：量子级联激光器可调谐布拉格光栅中红外
- 超薄自支撑聚合物薄膜的制备方法
- 本发明公开了一种超薄自支撑聚合物薄膜的制备方法，利用激光诱导化学气相沉积方式，实现聚合物薄膜单分子层生长，并通过脱膜技术获得超薄自支撑薄膜。该方法通过脉冲进气和气体流量、压力的精确控制，实现了聚合物单体的分子流方式进入真...
- 彭丽萍吴卫东王雪敏樊笼蒋涛王新明湛治强沈昌乐阎大伟赵妍黎维华邓青华
- 文献传递
- 2.5THz量子级联激光器的研制被引量：3
- 2015年
- 基于束缚态到连续态跃迁有源区能带结构，实现了2．5 THz量子级联激光器的连续波工作。激光器的输出频率随电流可在2．45-2．47 THz之间可调，在连续波工作模式下的最高输出功率大于6．0mw，最高连续波工作温度为60 K，阈值电流密度为120 A／cm2，经Si透镜整形后的输出光斑为高斯分布。
- 王雪敏沈昌乐蒋涛湛治强黎维华彭丽萍邓青华樊龙王新明阎大伟赵妍吴卫东唐永建
- 关键词：太赫兹量子级联激光器连续波高斯分布
- 对温湿度及压力进行控制的传感器测试腔体及应用方法
- 本发明公开了一种对温湿度及压力进行控制的传感器测试腔体及应用方法，包括：测试腔，其内设置有放置待测传感器样品的平台；设置在与测试腔上方的盖体，其在与平台相配合的位置上设置有透明窗口；设置在平台下方的第一加热机构；设置在测...
- 杨奇邹蕊矫舒琳罗跃川李恪宇蒋涛阎大伟王雪敏彭丽萍吴卫东
- 文献传递
- 一种铌溅射泵及真空系统
- 本实用新型提供了一种铌溅射泵及真空系统，属于真空技术领域，真空系统包括腔体、机械泵、分子泵、离子泵和铌溅射泵，铌溅射泵包括壳体、直流磁控溅射靶枪、惰性气体入口和挡板，直流磁控溅射靶枪为铌靶，壳体内设置有空腔，空腔与待抽真...
- 彭丽萍吴卫东王雪敏樊龙蒋涛王新明湛治强沈昌乐阎大伟赵妍黎维华邓青华
- 文献传递
- 激光诱导CVD设备
- 本实用新型公开了一种激光诱导CVD装置，包括真空腔体，抽气系统，真空计，气体输运系统以及激光器。真空腔体是化学反应发生的场所，气体输运系统把发生反应的物质输送到真空腔内，激光给化学反应的发生提供能源，抽气系统保证化学反应...
- 吴卫东彭丽萍王雪敏黎维华樊龙蒋涛王新明湛治强沈昌乐阎大伟赵妍邓青华
- 文献传递
