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高亮

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：深圳大学更多>>
相关领域：理学电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇大气压
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体振荡
  • 1篇电子密度
  • 1篇涂层
  • 1篇喷涂
  • 1篇喷涂涂层
  • 1篇喷涂制备
  • 1篇阻挡放电
  • 1篇介质
  • 1篇介质阻挡
  • 1篇介质阻挡放电
  • 1篇钨
  • 1篇ATMOSP...
  • 1篇CU
  • 1篇W

机构

  • 2篇深圳大学

作者

  • 2篇高亮
  • 1篇江石寿
  • 1篇黄建军
  • 1篇刘英
  • 1篇齐冰
  • 1篇王凡
  • 1篇王喜省

传媒

  • 1篇深圳大学学报...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
大气压下等离子体喷涂制备Cu/W涂层性能研究(英文)被引量：2
2011年
采用大气压等离子体喷涂和高速大气压等离子体喷涂技术制备Cu/W涂层,分别对该涂层断面的表面形貌、孔隙率、氧含量和结合强度进行测试分析.结果表明,高速大气压等离子体喷涂技术制备的Cu/W涂层在孔隙率和氧含量方面突显优势.采用高速大气压等离子体喷涂技术制备的Cu/W涂层孔隙率低于3%,且大部分孔径均小于1μm,利用EDS测得的W涂层氧含量为w(O)=0.41%,该值与真空等离子体喷涂制备的W涂层含氧量接近.与真空等离子体喷涂技术相比,高速大气压等离子体喷涂制备W涂层技术的复杂性和制作成本显著降低,在工程应用中实用可行.
刘英王凡黄建军江石寿王喜省齐冰高亮
关键词：喷涂涂层
大气压沿面介质阻挡放电等离子体实验及诊断研究
高亮
关键词：等离子体振荡
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