王盼盼
- 作品数：8 被引量：24H指数：2
- 供职机构：中国科学院更多>>
- 发文基金：全球变化研究国家重大科学研究计划中国科学院国防科技创新基金国家重大科学仪器设备开发专项更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术一般工业技术理学化学工程更多>>
- 时间敏感网络流量整形技术综述被引量：10
- 2022年
- 在保持与标准以太网兼容的基础上,基于以太网协议的时间敏感网络(TSN)通过建立网络时间同步、流量调度等手段,使得网络同时具备传输实时信号的能力.流量整形作为TSN关键技术,在解决时间敏感流传输的实时性和确定性问题方面至关重要.TSN目前主要的流量整形措施有4种,包括基于信用的整形技术(CBS)、时间感知整形调度技术(TAS)、周期性排队与转发调度技术(CQF)和帧抢占技术.本文对这4种流量调度机制的工作原理、运行机制进行了全面的介绍,通过分析各算法的特点,梳理不同应用场景下流量调度的优选策略.
- 张磊王盼盼
- W掺杂VO_2薄膜的椭圆偏振光谱表征被引量：2
- 2016年
- 利用MSP-3200三靶共溅射镀膜机,射频磁控溅射在石英基底上反应溅射制备单斜相（M相）VO_2薄膜及W掺杂单斜相（M相）VO_2薄膜。利用WVASE32椭圆偏振仪及变温附件在350~2 500 nm波长范围内对相变前后的VO_2薄膜及W掺杂VO_2薄膜进行光谱测试,运用Lorentz谐振子色散模型结合有效介质近似模型对椭偏参数进行拟合。结果表明：W掺杂的VO_2薄膜与纯相的VO_2薄膜相比,光学常数n、k随波长的变化趋势相同,但W掺杂后的VO_2薄膜的折射率n小于纯相VO_2薄膜的折射率,而消光系数k值大于纯相VO_2薄膜的k值。W的掺入增加了薄膜的致密度,同时增加了薄膜内部自由载流子的浓度。
- 王盼盼张云龙吴岭南曹韫真宋力昕章俞之
- 关键词：氧化钒薄膜椭圆偏振光谱光学常数
- 一种金属元素Mg掺杂的VO<Sub>2</Sub>薄膜及其制备方法
- 本发明涉及一种金属元素Mg掺杂的VO<Sub>2</Sub>薄膜及其制备方法，所述金属元素Mg掺杂的VO<Sub>2</Sub>薄膜具有无规律分布的纳米气孔且主相为单斜相，晶面取向为（011）晶面，晶粒尺寸为90 nm～...
- 王盼盼章俞之张云龙彭明栋吴岭南宋力昕
- 文献传递
- 基于行扫描测量的运动目标压缩成像被引量：2
- 2017年
- 运动目标成像在实际应用中具有重要作用,而如何获取高质量运动目标图像是该领域研究中的一个热点问题.本文采用行扫描采样的方式,通过构造运动测量矩阵,建立一种基于压缩感知理论的运动物体成像模型,并通过仿真及实验,验证了该模型对于恢复运动物体图像信息的可行性.实验结果证明,该方法可获得高质量的运动物体成像.通过引入图像质量评价标准,分析了运动物体成像质量与速度之间的关系.将该方法与普通压缩感知算法进行比较,结果证明,在相同速度下,该方法的成像质量更高.该方法在无人机对地观测、产品线视频监测等领域有着很好的应用前景.
- 王盼盼姚旭日刘雪峰俞文凯邱棚翟光杰
- 关键词：压缩感知运动目标成像行扫描测量矩阵
- VO2薄膜及W掺杂VO2薄膜的椭偏光谱表征
- 利用MSP-3200三靶共溅射镀膜机,射频磁控溅射在石英基底上反应溅射制备了单斜相(M相)VO2薄膜及W掺杂单斜相(M相)VO2薄膜。利用WVASE32椭圆偏振仪及变温附件在350nm2500nm波长范围内对相变前后的V...
- 王盼盼张云龙吴玲南曹韫真宋力昕章俞之
- 关键词：VO2薄膜椭圆偏振光谱光学常数
- 钛掺杂三氧化钨薄膜结构与电致变色性能研究被引量：10
- 2017年
- 通过射频溅射法,常温下制备了纯相WO_3和Ti掺杂WO_3薄膜,采用XRD、SEM、Raman、电化学工作站、紫外–可见–近红外分光光度计等对薄膜的微观结构、循环稳定性、光学性能进行了表征和分析。研究发现:钛掺杂对WO_3薄膜的表面形貌和光学常数影响不明显,但使薄膜的晶化温度升高。电化学测试结果表明,Ti掺杂可以提高离子在薄膜中注入/抽出的可逆性,提高薄膜的循环稳定性,同时薄膜的响应速度和光学调制性能也得到提高,掺杂后薄膜着色态和漂白态的响应时间分别由9.8、3.5 s减小为8.4、2.7 s,因此Ti掺杂WO_3薄膜具有更好的电致变色性能。
- 彭明栋章俞之宋力昕尹小富王盼盼吴岭南胡行方
- 关键词：电致变色
- 一种金属元素Mg掺杂的VO<sub>2</sub>薄膜及其制备方法
- 本发明涉及一种金属元素Mg掺杂的VO<Sub>2</Sub>薄膜及其制备方法，所述金属元素Mg掺杂的VO<Sub>2</Sub>薄膜具有无规律分布的纳米气孔且主相为单斜相，晶面取向为（011）晶面，晶粒尺寸为90 nm～...
- 王盼盼章俞之张云龙彭明栋吴岭南宋力昕
- VO2薄膜Vis-NIR及NIR-MIR椭圆偏振光谱分析被引量：1
- 2016年
- 采用射频磁控溅射在石英玻璃基底上反应溅射制备单斜相(M相)VO_2薄膜.利用V-VASE和IR-VASE椭圆偏振仪及变温附件分别在0.5—3.5 eV(350—2500 nm)和0.083—0.87 eV(1400—15000 nm)入射光能量范围内对相变前后的VO_2薄膜进行光谱测试,运用逐点拟合的方式,并通过薄膜的吸收峰的特征,在0.5—3.5 eV范围内添加3个Lorentz谐振子色散模型和0.083—0.87 eV范围内添加4个Gaussion振子模型对低温态半导体态的薄膜椭偏参数进行拟合,再对高温金属态的薄膜添加7个Lorentz谐振子色散模型对进行椭偏参数的拟合,得到了较为理想的拟合结果.结果发现:半导体态的VO_2薄膜的折射率在近红外-中红外基本保持在最大值3.27不变,且消光系数k在此波段接近于零,这是由于半导体态薄膜在可见光-近红外光范围内的吸收主要是自由载流子吸收,而半导体态薄膜的d//轨道内的电子态密度较小.高温金属态的VO_2薄膜的折射率n在近红外-中红外波段具有明显的增大趋势,且在入射光能量为0.45 eV时大于半导体态的折射率;消光系数k在近红外波段迅速增大,原因是在0.5—1.62 eV范围内,能带内的自由载流子浓度增加及电子在V_(3d)能带内发生带内的跃迁吸收,使k值迅速增加;当能量小于0.5 eV时k值变化平缓,是由于薄膜内自由载流子浓度和电子跃迁率趋于稳定所致.
- 王盼盼章俞之彭明栋张云龙吴岭南曹韫真宋力昕
- 关键词：氧化钒薄膜椭圆偏振光谱光学常数
