王文静 作品数:14 被引量:33 H指数:4 供职机构: 齐鲁师范学院物理与电子工程学院 更多>> 发文基金: 山东省优秀中青年科学家科研奖励基金 国家自然科学基金 国家重点基础研究发展计划 更多>> 相关领域: 理学 一般工业技术 金属学及工艺 电子电信 更多>>
射频溅射功率对FeZrBCu软磁合金薄膜巨磁阻抗效应的影响 被引量:5 2005年 用射频溅射法制备了FeZrBCu软磁合金薄膜 .研究了不同溅射功率对FeZrBCu薄膜软磁特性和巨磁阻抗效应的影响 .用电子探针显微镜测量发现 ,当溅射功率为 2 4 0W时 ,薄膜样品中Fe的原子含量为 87 32 % ,Cu的原子含量为 2 9% .这种样品的矫顽力最小 ,为 6 8A m ,饱和磁化强度约为 1 11× 10 5A m ,软磁性能最佳 ,巨磁阻抗效应最大 ,溅态膜在 13MHz最大巨磁阻抗比纵向为 17% ,横向为 11% .重点分析了阻抗的电阻、电感分量及横向有效磁导率随频率的变化 ,得到在低频下主要是磁电感效应 ,此时磁导率对电感分量的变化起重要作用 . 王文静 萧淑琴 刘宜华 陈卫平 代由勇 姜山 袁慧敏 颜世申关键词:铁基合金 薄膜生长 巨磁阻抗效应 共轭聚合物中受激吸收与受激辐射的量子动力学研究 被引量:1 2014年 基于扩展的一维SSH紧束缚模型结合非绝热的分子动力学方法,理论研究了共轭聚合物分子(PPV)在光脉冲作用下受激吸收和受激辐射的量子动力学过程.首先,设定分子初始处于基态,讨论了受激吸收过程中不同的电子受激跃迁模式与光激发脉冲的关系.通过对终态的分析,发现分子受激后只能产生电子-空穴的束缚态,包括:激子、双激子和高能激子.计算了各种激发态的产率,特别是,给出了各种激发态产率与光激发能量的定量关系.此外,基于实验,分别讨论了光激发强度对高能激子和双激子产率的影响,并与实验结果进行了比较.最后,设定分子初始分别处于激子和双激子态,研究了分子内定域能级之间的受激辐射过程,并简单讨论了激子和双激子受激辐射与光激发能量及强度的关系. 王文静 孟瑞璇 李元 高琨关键词:受激辐射 激子 沉积态(Fe_(88)Zr_7B_5)_(0.97)Cu_(0.03)软磁合金薄膜的磁性和巨磁阻抗效应 被引量:4 2004年 采用射频溅射法在单晶硅衬底上制备了(Fe88Zr7B5)0.97Cu0.03非晶软磁合金薄膜样品,对沉积态样品的软磁性能和巨磁阻抗(GMI)效应进行了实验研究与机理分析.结果表明,未掺Cu元素的Fe88Zr7B5沉积态合金薄膜几乎无GMI效应,而掺了适量Cu元素的(Fe88Zr7B5)0.97Cu0.03合金薄膜在沉积态下即具有显著的GMI效应.在13 MHz频率下,最大纵向磁阻抗比达17%,最大横向磁阻抗比为11%,这表明(Fe88Zr7B5)0.97Cu0.03非晶合金薄膜在沉积态已具备优异的软磁性能和巨磁阻抗效应.同时讨论了该薄膜样品的巨磁阻抗效应随频率的变化特性. 陈卫平 萧淑琴 王文静 刘宜华关键词:软磁性能 趋肤效应 巨磁阻抗效应 不同退火过程对FeZrBCu软磁合金薄膜巨磁阻抗效应的影响 被引量:2 2010年 用射频溅射法制备了(Fe88Zr7B5)0.96Cu0.04非晶软磁合金薄膜.研究了不同退火条件对其巨磁阻抗(GMI)效应的影响.该样品在自然退火和电流退火热处理后,纵向GMI比下降,并随退火电流的增加而增加,在电流为800mA时达到最大值17%,磁场灵敏度相对于未退火样品的4%(kA/m)-1有所提高,达到7%(kA/m)-1.(Fe88Zr7B5)0.96Cu0.04薄膜经不同温度下纵向磁场退火处理后,样品的纵向和横向GMI比均有所提高,在250℃获得最大的GMI比,13MHz时,最大纵向磁阻抗比达到17.5%,表现为单峰;横向磁阻抗比曲线变为双峰结构,在±0.4kA/m的磁场下,出现峰值为17.8%。 王文静 袁慧敏 萧淑琴关键词:铁基合金 巨磁阻抗效应 FeCuCrVSiB单层和多层膜的横向巨磁阻抗效应 被引量:9 2006年 用射频溅射法制备了Fe71.5Cu1Cr2.5V4Si12B9单层膜和结构为(F/S)3/M/(F/S)3的多层膜,在制备过程中加72kA/m的纵向磁场.研究表明在制备过程中加磁场明显改善了材料的软磁性能,降低了材料的矫顽力.将样品经不同温度退火热处理后,发现经230℃退火1.5h的单层膜和多层膜具有最佳的软磁性能和最大的磁阻抗效应,单层膜最大横向磁阻抗比为37.5%,多层膜最大横向磁阻抗比高达277%.通过比较单层和多层膜磁阻抗效应随频率和磁场的变化,发现多层膜具有较低的磁阻抗效应的临界频率和峰值特征频率,和较大的磁阻抗变化率,而且有较低的横向磁阻抗效应的饱和场. 王文静 袁慧敏 姜山 萧淑琴 颜世申关键词:铁基合金 多层膜 巨磁阻抗效应 加磁场制备FeCuNbSiB软磁合金薄膜的畴结构和巨磁阻抗效应 被引量:1 2013年 本文研究了用射频溅射法制备的Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9薄膜的巨磁阻抗效应,并对其磁畴结构进行了分析.探讨在制备过程中加一纵向或横向稳恒磁场对薄膜各向异性场的影响.在制备过程中加磁场使得材料的软磁性能得到明显改善,矫顽力从400Am-1降为60Am-1,磁阻抗效应有较大提高.加横向磁场制备的Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9薄膜的畴结构,不是严格的沿着样品的长方向,而是略向宽方向倾斜.经300°C退火后的FeCuNbSiB薄膜具有最大的磁阻抗效应,其纵向磁阻抗比为38%,横向磁阻抗比为27%,巨磁阻抗效应的磁场灵敏度分别为47.5%/kAm-1和11.3%/kAm-1. 王文静 袁慧敏 李娟 姬长建 代由勇 萧淑琴关键词:铁基合金 巨磁阻抗效应 磁各向异性 FeZrB及FeZrBCu软磁合金薄膜的巨磁阻抗效应 用射频溅射法制备了FeZrB、(FeZrB)Cu和(FeZrB)Cu非晶软磁合金薄膜。研究了掺杂不同原子百分比的Cu对FeZrB软磁合金巨磁阻抗(GMI)效应的影响,未掺Cu的FeZrB制备态薄膜几乎无GMI效应,而掺C... 王文静 萧淑琴 陈卫平 袁慧敏 姜山 武震宇 刘宜华 颜世申文献传递 FeCuCrVSiB多层膜巨磁阻抗效应的研究 被引量:6 2005年 研究了结构为(FM SiO2)3Ag(SiO2FM)3多层膜的巨磁阻抗(GMI)效应(这里的FM≡FeCuCrVSiB).多层膜采用射频溅射法沉积在单晶Si衬底上,沉积过程中,沿膜面长方向施加约72kA m的磁场,然后在不同的温度下对样品进行了退火处理.结果表明,该多层膜样品即使在沉积态便具有相当好的软磁性能和GMI效应,在7MHz的频率下,最大纵向和横向巨磁阻抗比分别为45%和44%.在230℃下经90min退火处理后的样品具有最佳的GMI效应,在8.5MHz的频率下,最大纵向和横向巨磁阻抗比分别达到251%和277%.与磁性层总厚度相同的FeCuCrVSiB Ag FeCuCrVSiB三层膜相比较,在这种多层结构中出现的GMI效应更强. 陈卫平 萧淑琴 王文静 姜山 刘宜华关键词:多层膜 巨磁阻抗效应 趋肤效应 稀磁半导体GaMnAs的物理性质研究 被引量:2 2010年 利用低温分子束外延技术制备高质量的GaMnAs薄膜,通过XRD对样品进行分析,从实验和理论上分析生长条件、退火条件对薄膜缺陷及薄膜性能的影响.尤其是分析系统的研究间隙位Mn原子与As反位原子缺陷的变化,从而深入理解掺杂原子的周围结构与磁性之间的关系,为下一步制备自旋器件提供高载流子浓度、高居里温度的(Ga,Mn)As材料提供了可能性. 姬长建 张成强 冯素华 王文静关键词:分子束外延 X射线衍射 居里温度 制备态FeZrBNi/Ag/FeZrBNi三层膜的巨磁阻抗效应 被引量:3 2006年 用射频溅射法在单晶硅衬底上制备了FeZrBNi/Ag/ReZrBNi三层膜,对制备态样品进行了磁阻抗测量.结果表明,样品纵向和横向的最大磁阻抗比分别为18%和31%,取得最大阻抗比的频率分别为7和8MHz;在此频率下,样品的纵向和横向相对磁导率比分别达到153%和5117%.这表明掺Ni的FeZrB三层膜在制备态已具备优异的巨磁阻抗效应和软磁性能.同时还分析了薄膜样品的电阻、电抗分量和有效磁导率随频率的变化关系. 袁慧敏 姜山 王文静 颜世申 萧淑琴关键词:巨磁阻抗效应 掺杂