范建兴
- 作品数：9 被引量：12H指数：2
- 供职机构：清华大学信息科学技术学院电子工程系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 正则扰动下周期时变系数矩阵Sylvester表示的振荡器相位噪声分析方法被引量：2
- 2006年
- 振荡器的相位噪声分析是通过扰动自激大信号状态方程,导出周期时变小信号状态方程进行的.在振荡器的时域稳态解上应用传统的正则扰动方法,对周期时变系数Jacobi矩阵按照Sylvester定理进行分解,在它的周期向量构成的空间上,分析振荡器在扰动下能保持周期稳态的条件;注入表示白噪声的频域伪正弦信号和时域δ相关信号,应用随机微分方法,揭示相位噪声的产生过程,计算相位抖动;应用调频的原理分析幂律谱和Lorentz谱的形成以及它们之间的关系,并获得包含谐波的Lorentz功率谱.以周期系数Jacobi矩阵为基础,构造简单的计算Floquet指数和相位噪声的算法流程并给出简单实例.最后指出振荡器相位噪声分析的难点和发展方向.
- 范建兴杨华中汪蕙严晓浪侯朝焕
- 关键词：相位噪声随机微分
- 离轴照明成像研究
- 1996年
- 本文阐述了离轴照明提高曝光分辨率和增加焦深的原理，应用Ｈｏｐｋｉｎｓ理论研究了其成像特性。给出了两种离轴照明方式──四极照明和环形照明下的空间像分布，并和传统照明方式下的空间像分布作比较。计算结果说明，采用离轴照明使得曝光分辨率和焦深得到了很大的提高。
- 周崇喜林大键冯伯儒范建兴崔铮
- 关键词：离轴照明分辨率焦深微细加工
- 微光刻中的驻波效应研究
- 1998年
- 本文阐述了驻波效应的成因及其对微细图形光刻，特别是对深亚微米和亚半微米光刻的影响；分析了驻波强度分布；根据抗蚀剂的物理和化学机制，建立了抗蚀剂显影过程的数学和物理模型，并开展了计算机模拟和光刻曝光实验；研究了减小驻波效应的方法；给出了部分模拟和实验结果。
- 冯伯编张锦范建兴陈芬
- 关键词：光刻技术集成电路
- 微细图形光刻计算机模拟软件
- 1998年
- 本文介绍了新近开发成功的ＢＥＨＡＶＥ软件。该软件具有良好的交互式界面，全面高效的计算模拟功能，是研究探讨微细图形光刻中的驻波效应以及整个微细图形光刻工艺计算模拟的强有力工具。
- 范建兴冯伯儒张锦陈芬崔铮
- 关键词：计算机模拟光刻技术
- 微细图形光刻中的驻波效应研究
- 该论文从光的电磁波理论出发,得到抗蚀剂内驻波的解析表达式,理论上对抗蚀剂中驻波的产生根源和包括位置和强度分布的存在方式进行了研究;从抗蚀剂的物理化学反应机制出发,对抗蚀剂进行参数化处理,建立起了用于投影光刻技术曝光和显影...
- 范建兴
- 关键词：抗蚀剂计算机模拟投影光刻光刻计算机模拟
- 投影光刻技术的计算机模拟研究被引量：5
- 1996年
- 投影光刻技术的计算机模拟分为三部分：空间像强度分布计算，曝光计算和显影计算。本文分别讨论了各部分数学模型的建立，计算方法及特点，并给出了一些研究结果。
- 范建兴冯伯儒张锦周崇喜
- 关键词：投影光刻计算机模拟光刻技术
- 光致抗蚀剂曝光的虚膜插入模拟技术被引量：1
- 2002年
- 提出了在各膜层之间插入虚膜的计算方法 ,导出了相应的光学薄膜传输矩阵 .该方法使得膜与膜之间解耦 ,并便于在计算机上存储和计算薄膜的反射率、透射率以及能流密度 .对抗蚀剂曝光的计算结果表明这种技术是有效的 .
- 范建兴杨华中汪蕙
- 关键词：集成电路
- 用时间-边界跟踪模型确定抗蚀剂显影后的轮廓分布被引量：2
- 1997年
- 文章提出了时间一边界跟踪模型的定义，阐述了用该模型确定抗蚀剂显影后的轮廓分布的方法，并给出了模拟计算结果．
- 范建兴冯伯儒张锦
- 关键词：计算机模拟光刻
- 振荡器时变相位噪声分析技术研究进展被引量：3
- 2004年
- 介绍了两种射频振荡器的时变相位噪声模型:Demir&Mehrotra的非线性扰动模型和Hajimiri&Lee的时变相位噪声模型。对一个简单的非线性电导LC振荡器,分别建立了这两种模型,并指出了两种模型的联系和区别。讨论了两种模型的计算方法,介绍了在EDA软件HSpice和SpectreRF下,以及频域中相位噪声的计算问题。最后,进一步讨论了时变相位噪声,指出相位噪声分析的难点和未来的发展方向。
- 范建兴权进国杨华中汪蕙
- 关键词：射频振荡器相位噪声
