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张雪利

作品数:4 被引量:6H指数:2
供职机构:北京化工大学更多>>
发文基金:北京市自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇一般工业技术

主题

  • 3篇共沉淀
  • 2篇电阻率
  • 2篇生长环境
  • 2篇前躯体
  • 2篇粒度
  • 2篇颗粒度
  • 2篇粉体
  • 2篇粉体分散
  • 1篇烧结助剂
  • 1篇升温速率
  • 1篇共沉淀法
  • 1篇共沉淀法制备
  • 1篇分散剂
  • 1篇靶材
  • 1篇ITO靶材

机构

  • 4篇北京化工大学

作者

  • 4篇张雪利
  • 3篇刘家祥
  • 2篇李敏
  • 2篇雷文

传媒

  • 1篇稀有金属材料...

年份

  • 2篇2017
  • 2篇2016
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
氧化铟锡粉体和靶材制备工艺的优化研究
氧化铟锡(ITO)靶材是一种将锡掺杂进入氧化铟产生的复合氧化物材料,采用磁控溅射法,以ITO靶材为原料制备的ITO薄膜可广泛应用于液晶显示器、薄膜晶体管显示器等光电子领域。目前国内ITO靶材制备技术不够完善,因此研究IT...
张雪利
关键词:ITO靶材升温速率烧结助剂
文献传递
缓冲溶液和分散剂对共沉淀法制备纳米级ITO粉体的影响被引量:3
2017年
用化学共沉淀法制备ITO粉体。制备过程中,分别将NH_4Cl-NH_3H_2O、(NH_4)_2SO_4-NH_3H_2O和NH_4AC溶液作为缓冲溶液,保持反应过程中pH值基本不变。采用可溶性淀粉、PVP、十二烷基磺酸钠作为分散剂。借助XRD、TEM、BET及四探针电阻仪,研究缓冲溶液和分散剂对制得粉体的物相、形貌、分散性及导电性能的影响。结果表明:采用缓冲溶液制备出的粉体为单相In_2O_3粉体。采用NH_4AC作为缓冲溶液,用淀粉作为分散剂,当pH值为6~7时,所制粉体的粒径在10 nm左右,颗粒为立方体形,粒度均匀,分散性能好,电阻率相对较低。
张雪利刘家祥
关键词:分散剂
纳米级氧化铟锡粉体的共沉淀制备方法
本发明涉及一种共沉淀法制备纳米级氧化铟锡粉体(ITO)的方法。采用本发明的方法制得的ITO粉体适用于制备高品质的ITO靶材。本发明的共沉淀制备方法,采用缓冲溶液作为前躯体的生长环境,在反应过程中,溶液pH值基本不变,前躯...
刘家祥张雪利李敏雷文
文献传递
纳米级氧化铟锡粉体的共沉淀制备方法
本发明涉及一种共沉淀法制备纳米级氧化铟锡粉体(ITO)的方法。采用本发明的方法制得的ITO粉体适用于制备高品质的ITO靶材。本发明的共沉淀制备方法,采用缓冲溶液作为前躯体的生长环境,在反应过程中,溶液pH值基本不变,前躯...
刘家祥张雪利李敏雷文
共1页<1>
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