黄金勇
- 作品数：28 被引量：17H指数：3
- 供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信金属学及工艺交通运输工程化学工程更多>>
- 一种光学元件抛光工具及抛光方法
- 本发明公开一种光学元件抛光工具，包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层，连接杆的上端与抛光机构连接，连接杆的下端与磨盘的顶部连接，连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合，磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台，抛光膜层包覆在凸台上，压圈中...
- 黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒高胥华何祥马平鄢定尧
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- 一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置
- 本实用新型公开一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置，包括用于装置元件的保持架和环抛驱动机构，保持架对抛光盘面进行压力加载，并使元件贴合在抛光盘面上，环抛驱动机构带动保持架在抛光盘面旋转从而使元件进行环抛加工，并且还设置有带...
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- 大口径平面光学元件波前梯度数控抛光被引量：10
- 2019年
- 针对改善光学元件的波前梯度均方根指标,在总结面形精度及面形分布对波前梯度指标影响规律的基础上,提出了基于匀滑面形拟合加工的方法,给出了该方法的基本思想和工作流程。首先,对原始面形数据进行扫描计算,标记波前突变数据。然后,采用NURBS拟合算法重构相邻面形突变点之间的数据,生成用于指导加工的面形数据。最后,根据待加工面形数据选择相应参数进行面形加工。采用多件610mm×440mm口径K9材料平面反射镜进行实验验证。实验结果表明,使用该方法进行数控加工,在2~3个加工周期内可使波前梯度均方根指标从11nm/cm收敛至7.7nm/cm以内,且面形几乎保持不变。
- 黄金勇赵恒胡庆高胥华
- 关键词：光学加工光学元件
- 一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置
- 本发明公开一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置，包括用于装置元件的保持架和环抛驱动机构，保持架对抛光盘面进行压力加载，并使元件贴合在抛光盘面上，环抛驱动机构带动保持架在抛光盘面旋转从而使元件进行环抛加工，并且还设置有带动保...
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- 一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置
- 本发明公开了一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置，包括酸液输运单元、搅拌混合单元、抛光液输运单元和喷头，采用方法为将熔石英元件在特定浓度的氢氟酸稀溶液中浸泡5～10min，去除表面污染物与抛光再沉积层；根据...
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- 一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法
- 本发明公开了一种可用于球面、非球面反射镜或透镜的焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法，特别适用于大口径长焦距光学元件的焦距检测，涉及光学检测领域。沿光路方向该装置主要包括光源（1）、光束聚焦透镜组（2）、...
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- 一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统
- 本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈...
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- 一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法
- 本发明公开了一种可用于球面、非球面反射镜或透镜的焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法，特别适用于大口径长焦距光学元件的焦距检测，涉及光学检测领域。沿光路方向该装置主要包括光源（1）、光束聚焦透镜组（2）、...
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- 水射流抛光去除函数对面形误差修正的影响被引量：4
- 2016年
- 研究了水射流抛光条件下的去除函数特征,根据去除函数的一维轮廓特征采用分段解析函数拟合方法建立了去除函数的解析表达式。根据解析表达式采用Matlab数值模拟方法对不同参数条件下的去除函数进行了一维叠加去除模拟,引入波纹度均方根值Wrms指标,对均匀去除与线性去除条件下不同参数对去除函数一维误差修正的影响进行了讨论。通过两轮水射流抛光实验,使F50 mm熔石英玻璃面形峰谷值λPV由0.148λ收敛至0.062λ,90%与75%口径范围分别收敛至0.048λ与0.032λ。面形均方根值λrms由18.86 nm收敛至4.87 nm,90%与75%口径范围内分别收敛至3.67 nm与3.15 nm。
- 吕亮马平朱衡黄金勇王刚
- 关键词：光学制造去除函数熔石英
- 一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法
- 本发明公开了一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法，涉及光学制造与光学材料加工领域。该方法包括：(1)首先确定抛光盘特征参数；(2)对抛光盘进行环带分割，并计算环带去除函数h<Sub>i</Sub>；(3)根...
- 吕亮黄金勇胡庆蒲云体马平鄢定尧张明骁朱衡刘杰
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