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谢敏

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇溅射
  • 1篇光学
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇硅含量
  • 1篇硅纳米晶
  • 1篇发光
  • 1篇富硅氧化硅
  • 1篇薄膜光学
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇杨德仁
  • 1篇金璐
  • 1篇王锋
  • 1篇谢敏
  • 1篇陈乐

传媒

  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
硅含量对SiO_x薄膜光学和电学性能的影响被引量：5
2013年
利用射频磁控溅射法通过调节硅(Si)靶的溅射功率制备了不同的富硅氧化硅(SiOx,1
陈乐谢敏金璐王锋杨德仁
关键词：射频磁控溅射富硅氧化硅硅纳米晶光致发光
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共1页<1>
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