屈亚东
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：西北大学信息科学与技术学院更多>>
- 发文基金：陕西省自然科学基金陕西省教育厅科研计划项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术更多>>
- 热丝化学气相沉积制备SiCN薄膜的研究
- 硅碳氮/(SiCN/)薄膜作为一种新型的宽带隙半导体材料,因其优异的物理和化学特性,使它成为当前材料科学领域的研究热点之一。研究表明,它具有较高的硬度及优良的抗氧化、抗腐蚀、耐磨损、热的稳定性和良好的发光特性等。因此,对...
- 屈亚东
- 关键词：HFCVD表面形貌晶体结构化学组成
- 文献传递
- 采用热丝化学气相沉积法制备SiCN薄膜的研究
- 2010年
- 采用热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,在单晶Si衬底上制备SiCN薄膜。所采用的源气体为高纯的SiH4,CH4和N2。用原子力显微镜(AFM)、X线衍射谱(XRD)和X线光电子能谱(XPS)对样品进行表征与分析。研究结果表明:SiCN薄膜表面由许多粒径不均匀、聚集紧密的SiCN颗粒组成;薄膜虽然已经晶化,但晶化并不充分,存在着微晶和非晶成分,通过Jade软件拟合计算出薄膜的结晶度为48.72%;SiCN薄膜不是SiC和Si3N4的简单混合,薄膜中Si,C和N这3种元素之间存在多种结合态,主要的化学结合状态为Si—N,Si—N—C,C—N,N=C和N—Si—C键,但是,没有观察到Si—C键,说明所制备的薄膜形成了复杂的网络结构。
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