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龙腾江

作品数:5 被引量:6H指数:1
供职机构:中山大学更多>>
发文基金:广东省科技计划工业攻关项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇湿法
  • 3篇电池
  • 2篇电阻
  • 2篇太阳电池
  • 2篇硼硅玻璃
  • 2篇硼扩散
  • 2篇刻蚀
  • 2篇硅玻璃
  • 2篇硅片
  • 2篇方块电阻
  • 2篇N型
  • 1篇电学性能
  • 1篇钝化
  • 1篇少子寿命
  • 1篇湿法化学腐蚀
  • 1篇太阳能电池
  • 1篇体硅
  • 1篇晶体硅
  • 1篇化学腐蚀
  • 1篇硅太阳能电池

机构

  • 5篇中山大学
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 5篇沈辉
  • 5篇龙腾江
  • 3篇徐冠群
  • 2篇周吉祥
  • 1篇白路
  • 1篇梁宗存
  • 1篇杨晓生

传媒

  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇第九届中国太...

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
一种检测太阳电池扩散均匀性的方法
本发明属于太阳电池产品技术领域,具体公开太阳电池硅片扩散均匀性的检测方法。其包括以下步骤:(1)去除磷/硼硅玻璃步骤;(2)测量硅片的多点处的方块电阻;(3)湿法返刻:采用HNO<Sub>3</Sub>和HF混合溶液组成...
沈辉龙腾江周吉祥徐冠群
文献传递
湿法去除N型CZ硅硼扩散过程形成的富硼层
硼扩散被应用于N型硅基的PN结制结工艺,然而硼扩散过程中会在硅片表面形成难以避免的富硼层,该层由于富集无活性硼原子会严重影响电池性能.本文采用HF-HNO3体系化学腐蚀的方法来除去富硼层,去除富硼层后的硅片少子寿命从14...
龙腾江沈辉沈磊
关键词:晶体硅产品质量
文献传递
湿法去除N型硅硼扩散过程形成的富硼层被引量:6
2015年
硼扩散被广泛应用于n型硅基的p-n结制结工艺,然而硼扩散难免会在硅片表面形成一层很薄的的富硼层,该层由于富集无活性硼原子会严重影响电池性能。本研究制备HF-HNO3化学腐蚀液来去除富硼层,采用该方法去除富硼层后的硅片少子寿命从26.829μs增加到69.106μs;WCT-120测得一个光照下Voc从610mv增加到了625mv,发射极饱和电流密度显著降低;去除富硼层后的方块电阻均匀性表现良好,甚至比采用传统后氧化法更具优势。虽然反射率有细微增加,但是对于镀完氮化硅减反膜后腐蚀所带来的反射率升高只有0.13%,因此,认为该方法可以成功应用到富硼层的去除中。
龙腾江徐冠群杨晓生沈辉
关键词:N型硅湿法化学腐蚀
高效n型晶体硅双面太阳电池研究
本文从制备出来的n型双面电池的I-V曲线以及电学性能数据看出,电池正反面的效率并不高,还有很大的提升距离。分析认为发射极钝化,应采用A12O3或者SiO2以及他们的叠层薄膜对p+发射极进行钝化,减少表面复合;选用体少子寿...
白路梁宗存龙腾江沈辉
关键词:硅太阳能电池少子寿命电学性能
一种检测太阳电池扩散均匀性的方法
本发明属于太阳电池产品技术领域,具体公开太阳电池硅片扩散均匀性的检测方法。其包括以下步骤:(1)去除磷/硼硅玻璃步骤;(2)测量硅片的多点处的方块电阻;(3)湿法返刻:采用HNO<Sub>3</Sub>和HF混合溶液组成...
沈辉龙腾江周吉祥徐冠群
共1页<1>
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