张伟锋
- 作品数：4 被引量：10H指数：1
- 供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 针对连续式化学镀的清洗技术
- 2013年
- 连续式化学液镀的清洗具有连续工作、用水量大的特点,特别对于镀液中含有有毒离子时,废液处理费用昂贵。针对连续式化学镀的这一特点,介绍了一种"三级溢流、六级清洗"的清洗方式,能够在保证清洗效果的同时大大降低废液的产生量。
- 刘永进张伟锋高津平
- 关键词：连续式化学镀
- IC打标设备的自动上料技术分析被引量：1
- 2004年
- 介绍了IC打标设备中常见的自动上料系统,分析了自动上料系统的的结构组成、工作原理、工作效率以及品种兼容性。
- 张伟锋
- 关键词：自动上料
- CMP后的晶圆清洗过程研究被引量：8
- 2008年
- 伴随着整个CMP工艺的进步,CMP后清洗工艺技术也日趋关键。分析了引起缺陷和玷污的因素、微粒去除的理论研究以及清洗的方案;在清洗方案中详细论述了机械去除、化学湿法去除和兆声去除;最后指出了新的技术及发展趋势。
- 张伟锋周国安詹阳
- 关键词：CMPZETA电位兆声清洗
- JBQ-3200型全自动金属膜剥离清洗系统研制技术被引量：1
- 2013年
- 主要介绍了JBQ-3200型全自动金属膜剥离清洗系统设备功能、用途、结构组成、性能指标、主要特点,以及解决的关键技术和应用,能自动完成厚度在0.25～0.7 mm的准100～准200 mm具有基准边的标准圆片微细图形金属膜剥离、清洗和甩干工艺,剥离线宽能做到0.35μm以上,是声表面波(SAW)器件、GaAs微波、毫米波器件、MEMS器件、OLED器件和先进封装等器件制造工艺中的关键设备。
- 陈仲武宋文超张伟锋刘永进
- 关键词：电气控制软件系统
