您的位置： 专家智库 > >

杨立鹏

作品数：2 被引量：4H指数：1
供职机构：北京工业大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电阻
  • 1篇选择性
  • 1篇优化设计
  • 1篇阵列器件
  • 1篇湿法腐蚀
  • 1篇腔面
  • 1篇面发射
  • 1篇面发射激光器
  • 1篇刻蚀
  • 1篇激光
  • 1篇激光器
  • 1篇高选择性
  • 1篇发射激光器
  • 1篇反射镜
  • 1篇干法
  • 1篇干法刻蚀
  • 1篇DBR
  • 1篇INP基
  • 1篇布拉格反射镜
  • 1篇垂直腔

机构

  • 2篇北京工业大学

作者

  • 2篇邓军
  • 2篇杨立鹏
  • 1篇徐晨
  • 1篇陈永远
  • 1篇李鹏飞
  • 1篇牛晓晨
  • 1篇吴波

传媒

  • 1篇半导体光电

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
共 2 条 记 录，以下是 1-2
全选 清除 导出
排序方式：
垂直腔面发射激光器DBR的优化设计被引量：4
2013年
模拟分析了垂直腔面发射激光器分布布拉格反射镜铝组分不同分布对价带的影响,并对两种不同结构的器件进行了测试,测试结果表明抛物线渐变结构可以有效降低价带的势垒,进而可以改善垂直腔面发射激光器的电流热效应,为实现室温连续工作打下基础。
李鹏飞邓军陈永远杨立鹏吴波徐晨
一种InP基面阵器件均匀刻蚀的工艺方法
一种InP基面阵器件均匀刻蚀的工艺方法，属于半导体光电子技术领域。本发明采用干法刻蚀和湿法腐蚀相结合的方法，提出干-湿-干刻蚀工艺：先用ICP（干法）刻蚀到本征层，然后利用高选择性腐蚀液对本征层进行腐蚀（湿法），最后再用...
邓军牛晓晨杨立鹏
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0