吴隽
- 作品数：56 被引量：64H指数：4
- 供职机构：武汉科技大学更多>>
- 发文基金：湖北省自然科学基金国家重点实验室开放基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺电子电信理学更多>>
- 负偏压对六方氮化硼薄膜沉积特性的影响被引量：1
- 2015年
- 利用射频磁控溅射法在n型Si(100)衬底上沉积六方氮化硼薄膜(h-BN),采用AFM、Raman、XPS、FTIR等技术研究负偏压对所沉积薄膜生长模式、结构、表面粗糙度、薄膜取向、相变等特性的影响。结果表明,当负偏压为0V时,沉积所得h-BN薄膜表面粗糙度较低、结晶性良好、c轴垂直于衬底且以层状模式生长;随着负偏压的增加,薄膜由层状模式生长转变为岛状模式生长,表面粗糙度增加,且h-BN经亚稳相E-BN和wBN向c-BN转变,使得BN薄膜相系统更加混乱,不利于高质量层状h-BN薄膜的获取。
- 龚甜吴隽李涛涛龙晓阳祝柏林祁婷
- 关键词：六方氮化硼SI衬底射频磁控溅射粗糙度相变
- 一种高硅取向硅钢薄板的制备方法
- 本发明涉及一种高硅取向低碳高硅硅钢薄板的制备方法。其技术方案是将基材为硅含量低于3.0wt％的低碳钢或低硅硅钢置于溅射室，在真空或保护性气氛下，采用溅射沉积法将不同靶材在基材两面交替或同时沉积，预制成硅铁合金膜或Fe/S...
- 吴隽从善海王蕾
- 文献传递
- 高硅钢织构的研究现状及进展被引量：4
- 2014年
- 6.5%(质量分数)Si高硅钢具有优异的软磁性能和广阔的应用前景,然而其室温脆性和低的热加工性极大地制约了它的发展。近年来,人们对高硅钢制备技术的研究已经取得了很大的进展,如何通过织构的优化提高高硅钢的磁性能越来越受到人们的关注,归纳和总结了不同工艺制备的高硅钢中的织构演变规律和特点,以及对应的典型磁性能。
- 秦卓朱军吴隽张莉龚甜从善海祝柏林
- 关键词：高硅钢织构磁性能
- 纳米ZnO与纳米复合ZMO的制备与应用
- 谢长生宋武林胡军辉曾大文胡木林王爱华陈建国吴润徐涛祝柏林吴隽程永亮
- 该成果开发的“金属熔体燃烧合成法”、“特型坩埚蒸发合成法”两种纳米zno与纳米复合ZMO的制备技术具有能量利用率高，产品粒径易于控制且不易团聚，稳定性好，产品成本低，易于实现工业化生产等特点；该成果开发的上述两种制备技术...
- 关键词：
- 关键词：纳米ZNO
- 一步法制备的ZnO-硼硅酸铅锌玻璃压敏电阻电性能研究被引量：4
- 2004年
- 以四足状纳米ZnO粉末为原料 ,以制备硼酸铅锌玻璃的氧化物替代硼酸铅锌玻璃直接进行共烧结 ,制备出了ZnO 硼硅酸铅锌玻璃压敏电阻 ,并对其电性能进行了研究。研究结果表明 :最佳添加量为 13 0wt%～ 17 4wt%。当添加量在 13 0wt%～ 17 4wt%时 ,在 90 0～ 1170℃温度范围 ,烧结温度对压敏电阻的漏电流IL 和非线性系数α的影响很小。含 13 0wt%添加剂的样品 ,其最大非线性系数α和最小漏电流IL 分别为 38 7和 1 7μA。烧结温度的降低主要源自于纳米ZnO粉末和添加了硼酸铅锌玻璃“形成”氧化物。
- 吴隽谢长生柏自奎张杰宋武林王爱华
- 关键词：压敏电阻一步法电性能
- 反应溅射法制备AZO薄膜的结构和透明导电性能
- 2019年
- 不同于常用的金属或氧化物靶材,本研究以表面粘贴Al片的Zn/Zn O混合物(Al@Zn/Zn O)为靶材,在衬底温度(Ts)为150℃和300℃,溅射气氛为Ar+O2和Ar+H2下反应溅射制备Al掺杂Zn O(AZO)薄膜。通过干涉显微镜、XRD、Hall效应测试仪、紫外-可见分光光度计研究了Ts以及O2和H2流量对薄膜结构及透明导电性能的影响。结果发现,随O2流量增加,两种Ts下制备的AZO薄膜保持(002)择优取向,薄膜中压应力呈下降的趋势,而薄膜结晶度趋向于先增加后略有下降。薄膜的导电性能随O2流量增加呈逐渐增强的趋势。当O2流量高于一定值时,薄膜可以获得较高的可见光透过率,因此达到较高的品质因子。当Ts从150℃增加到300℃,薄膜的压应力降低,结晶度提高,但导电性未见明显提高。另外,薄膜禁带宽度主要由薄膜中压应力决定。与Ar+O2下制备的AZO薄膜相比,Ar+H2气氛下制备的薄膜基本上为非晶态,其导电性能差,而可见光透过率较高、禁带宽度较大。
- 祝柏林李昆鹏谢挺吴隽
- 关键词：反应溅射AZO薄膜禁带宽度品质因子
- 富Zn-Al-Mg-Ce合金油漆涂层的盐雾腐蚀性能研究被引量：2
- 2009年
- 将研发的Zn-Al-Mg-Ce合金置入甩带机抽真空甩制成箔带,经粉碎制成鳞片状微粉后添加到环氧树脂油漆中制成富Zn-Al-Mg-Ce合金油漆涂层,再进行w(NaCl)为3.0%的水溶液盐雾腐蚀试验。结果表明,富Zn-Al-Mg-Ce合金油漆涂层的阴极保护效果较富Zn油漆涂层提高33倍以上,且涂层耐蚀性较富Zn油漆涂层提高了4.4倍。
- 从善海杨洪林汪旭超吴隽
- 关键词：盐雾腐蚀阴极保护
- (Ti/ZnO)_(N)成分调制纳米多层膜的结构与透光导电性研究
- 2021年
- 采用射频(RF)和单极中频直流脉冲磁控溅射方法,在玻璃基板上制备了(Ti/ZnO)_(N)成分调制纳米多层膜,并研究了调制周期数对其结构及透光导电性能的影响。通过X射线衍射、拉曼光谱、原子力显微镜、紫外可见吸收光谱以及霍尔效应测试结果表明:(Ti/ZnO)_(N)成分调制纳米多层膜以(002)取向的纤锌矿型ZnO结构为主,具有明确的成分调制结构,各Ti层和各ZnO层厚度均匀连续,各界面平整且无明显扩散。在可见光范围的平均透光率大于85%,电阻率最小可达到2.63×10^(-2)Ω·cm。
- 牛犇吴隽王凯丰黄成斌付豪祝柏林李涛涛李涛涛
- 关键词：磁控溅射电性能
- 纳米雄黄及其制备方法
- 本发明是把纳米技术引入到中药雄黄的制备，即把雄黄制成纳米级(1～100纳米)的细微粉粒，从而赋予雄黄以更高的药效和抗肿瘤作用。由于雄黄不溶于水，一般服用方法将其研磨成粉末入药。研究表明，中药产生的药理效应不能唯一地归功于...
- 谢长生杨祥良徐辉碧吴隽黄开勋邓英吴际洲金满文
- 文献传递
- 射频反应磁控溅射制备的SnO_2及SnO_2:F薄膜结构与透明导电性能被引量：2
- 2017年
- 以Sn和Sn+SnF_2为靶材,采用射频(RF)反应磁控溅射法在150℃不同O_2流量下制备了厚度约为300 nm的SnO_2和SnO_2:F薄膜。通过X射线衍射、Hall效应测试系统和紫外–可见分光光度计研究了两种薄膜的结构和透明导电性能。结果表明:随O_2流量增加,SnO_2薄膜由非晶变为多晶,择优取向从(101)面过渡到(211)面,薄膜电阻先减小后增大,平均透光率逐渐上升。随O_2流量增加,SnO_2:F薄膜结构与透明导电性能的变化规律与SnO_2薄膜类似,SnO_2:F薄膜的择优取向依次为(002)、(101)和(211)面,由于F掺杂,SnO_2:F薄膜的载流子浓度和迁移率明显增加,电阻率降低,同时平均透过率有所提高。目前,在合适的O_2流量下,SnO_2:F薄膜可达到的最低电阻率为4.16×10^(–3) ?·cm,同时其平均透光率为86.5%。
- 杨玉婷祝柏林谢挺张俊峰吴隽甘章华刘静
- 关键词：射频反应磁控溅射氟掺杂
