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刘均东

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金国防科技技术预先研究基金更多>>
相关领域：电气工程一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇多层膜
  • 1篇铁磁
  • 1篇金属
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇MAXWEL...
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射法

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇刘均东
  • 1篇张万里
  • 1篇彭斌

传媒

  • 1篇材料导报

年份

  • 2篇2010
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜的应力阻抗效应研究被引量：1
2010年
采用直流磁控溅射法在柔性Kapton基片上制备了三明治结构的FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜,研究了多层膜的交流阻抗随外加应力变化的规律。测试结果表明,三明治结构多层膜的阻抗随外加应力的增大而增大,应力阻抗效应随中间导电层厚度以及铁磁层厚度的增加而增强,同时应力阻抗效应也与测试频率密切相关。
刘均东张万里彭斌
铁磁/金属/铁磁三明治多层膜的应力阻抗效应研究
非晶态铁磁合金薄膜在外加应力作用下，阻抗会发生很大的变化，表现出明显的应力阻抗效应，这种特性可以广泛应用于应力/应变传感器中，因此对非晶态铁磁合金薄膜应力阻抗效应的研究具有实际意义。由于“铁磁/金属/铁磁”三明治多层膜表...
刘均东
关键词：MAXWELL方程磁控溅射法
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