公共文化服务平台

共 2 条记录，以下是 1-2

全选清除导出

排序方式：

沉积气压对ZnO薄膜的结构与光学性能影响: ZnO薄膜是一种直接宽带隙半导体材料，具有较高的激子束缚能(60eV)，即使在室温条件下激子也不会分解，具有多种用途，因此近年来对ZnO基半导体材料的研究越来越为人们所重视，为了研究沉积气压对磁控溅射制备Zno薄膜的结构...; 蒋平; 关键词：射频磁控溅射 ZNO薄膜透射率光学带隙; 文献传递

沉积气压对磁控溅射制备ZnO薄膜的结构与光学性能影响被引量：9: 2009年; 采用CS-400型射频磁控溅射仪在Si（111）和石英基底上成功的制备了ZnO薄膜，分别用XRD、SEM、紫外-可见光分光光度计和荧光分光光度计表征样品的结构和光学性质。实验表明，采用射频磁控溅射制备的ZnO薄膜具有六角纤锌矿结构的（002）峰和（101）峰的两种取向。在沉积气压〉1．0Pa时所制备的ZnO薄膜具有（002）择优取向，并且十分稳定。SEM图表明，ZnO薄膜颗粒大小较为均匀，晶粒尺寸随着气压升高而变小，沉积气压不同时，薄膜样品的生长方式有所差异。在400～1000nm范围内，可以看出除0．5Pa下制备的ZnO薄膜外，其余ZnO薄膜在可见光区域的平均透过率超过80％，吸收边在380nm附近，所对应的光学带隙约为3．23～3．27eV，并随着沉积气压上升而变大。ZnO薄膜的PL谱上观察到了392nm的近紫外峰和419nm的蓝峰；沉积气压对ZnO薄膜的发光峰位和峰强有影响。; 蒋平吴雪梅诸葛兰剑吴兆丰; 关键词：射频磁控溅射 ZNO薄膜透射率光学带隙 PL谱

全选清除导出

共1页<1>

蒋平