罗福平
- 作品数：3 被引量：10H指数：2
- 供职机构：武汉工程大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术化学工程更多>>
- 甲烷浓度对金刚石膜沉积质量的影响被引量：6
- 2014年
- 在10kW微波等离子化学气相沉积装置中,采用甲烷和氢气作为气源,在直径为50mm的P型(100)单晶硅片上进行了不同甲烷浓度条件下金刚石薄膜的制备研究.利用扫描电子显微镜和激光Raman光谱仪对所制备的金刚石膜进行表征.结果表明:较高的甲烷浓度(2%,体积分数)虽然可以加快金刚石膜生长速率,但离解反应气体的能量相对减弱,晶粒尺寸较小;此时原子氢刻蚀作用也会较弱,非金刚石相含量增加,残留的杂质越来越多,金刚石纯度不高,薄膜的质量较差.随着甲烷浓度的降低,金刚石膜(100)晶面充分显现,薄膜质量逐渐变好.然而过低的甲烷浓度(0.5%,体积分数)会导致有利于金刚石生长的含碳活性基团含量降低,使金刚石膜生长缓慢,晶粒尺寸难以长大.
- 汪建华苏帆翁俊罗福平胡晖
- 关键词：金刚石膜
- 高质量光学级金刚石膜的制备与研究
- CVD金刚石膜具有极好的光学性能，在红外窗口、高功率激光窗口等领域具有极好的应用前景。目前发达国家已经掌握了较为全面的光学级CVD金刚石膜的制备技术，但国内的研究还比较滞后，对光学级金刚石膜的沉积工艺及其内在影响规律还缺...
- 罗福平
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石膜碳源浓度生长温度光学性能
- 温度场对金刚石薄膜质量的影响被引量：4
- 2014年
- 在引进的韩国微波等离子化学气相沉积(MPCVD)设备中,利用氢气和甲烷作为气源,在单面抛光的(100)单晶硅片上研究了不同的形核温度和生长温度条件下制备出金刚石薄膜。通过Raman光谱、XRD光谱和扫描电子显微镜(SEM)对制备的金刚石膜的质量进行表征。研究结果表明,形核温度和生长温度对金刚石膜的生长均有影响。形核温度过低会增大薄膜中的非金刚石相的含量,促使二次形核增加,降低了金刚石薄膜质量。随着生长温度的升高,金刚石中非金刚石相含量越少,金刚石的质量提高,但金刚石的晶面同时也被大量刻蚀。
- 罗福平汪建华苏帆胡晖张莹
- 关键词：MPCVD生长温度
