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刘森林

作品数:2 被引量:3H指数:1
供职机构:大连交通大学更多>>
发文基金:辽宁省教育厅高等学校科学研究项目更多>>
相关领域:金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 1篇涂层
  • 1篇镍磷
  • 1篇镍硼合金
  • 1篇硼合金
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米化
  • 1篇化学沉积
  • 1篇化学镀
  • 1篇合金
  • 1篇非晶
  • 1篇NI
  • 1篇
  • 1篇纯铜

机构

  • 2篇大连交通大学

作者

  • 2篇刘森林
  • 1篇丁志敏
  • 1篇石子源
  • 1篇王德庆
  • 1篇赵键

传媒

  • 1篇大连铁道学院...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
Ni-P-B箔的制备及其纳米化的研究
本课题利用化学镀技术在塑料基体上镀铜、镀镍磷硼,然后将基体塑料溶解得到镍磷硼箔膜。首先研究了硫酸铜、酒石酸钾钠、氢氧化钠、甲醛和温度等因素对塑料基体上镀铜速率的影响规律,利用扫描电镜、X射线等分析手段,得出镀态组织的相关...
刘森林
关键词:化学镀非晶纳米化
文献传递
纯铜表面镍硼合金涂层的制备被引量:3
2005年
用化学沉积技术制备了N i-B表面强化铜基材料,研究了表面涂层的显微组织、涂液的成分对镍硼沉积速率的影响及有关性能.结果表明,用化学沉积技术能在纯铜表面形成一层均匀、连续的镍硼硬化层,镍硼涂层的沉积速率由涂液中的N iC l2,KBH4,NaOH,稳定剂和H2NCH2CH2NH2的浓度控制,涂层是非晶态组织和少量过饱和镍固溶体的混合物,热处理后在涂层中析出N i2B和N i3B化合物,改善了铜的表面硬度和耐磨损性能,对铜的电阻率影响不大.
刘森林石子源王德庆丁志敏赵键
关键词:化学沉积纯铜
共1页<1>
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