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郑湘林

作品数:5 被引量:7H指数:2
供职机构:中南大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金创新研究群体项目国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:化学工程交通运输工程机械工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 3篇气相沉积
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇常压化学气相...
  • 2篇电机
  • 2篇调速
  • 2篇调速电机
  • 2篇动密封
  • 2篇动密封装置
  • 2篇中空轴
  • 2篇送料
  • 2篇料罐
  • 2篇螺旋轴
  • 2篇密封
  • 1篇动力学
  • 1篇碳化锆
  • 1篇复合材料
  • 1篇复合材料基体
  • 1篇ZRC
  • 1篇APCVD

机构

  • 5篇中南大学

作者

  • 5篇郑湘林
  • 4篇熊翔
  • 2篇李国栋
  • 2篇孙威
  • 2篇刘岗
  • 2篇王雅雷
  • 2篇李国栋

传媒

  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇中南大学学报...

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 2篇2010
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
一种均匀可调送粉装置
本发明提供了一种均匀可调送粉装置,包括调速电机、调速电机传动轴、料罐盖、料罐、送料轴、进气管,料罐上有罐盖,料罐与罐盖之间有真空密封垫圈,罐盖中间有真空动密封装置,罐盖边部有装料口,动密封装置的转动轴上端与调速电机传动轴...
李国栋熊翔刘岗王雅雷郑湘林
文献传递
一种均匀可调送粉装置
本发明提供了一种均匀可调送粉装置,包括调速电机、调速电机传动轴、料罐盖、料罐、送料轴、进气管,料罐上有罐盖,料罐与罐盖之间有真空密封垫圈,罐盖中间有真空动密封装置,罐盖边部有装料口,动密封装置的转动轴上端与调速电机传动轴...
李国栋熊翔刘岗王雅雷郑湘林
C/C复合材料基体上常压化学气相沉积ZrC涂层及其烧蚀行为研究
郑湘林
关键词:C/C复合材料APCVD
氢气浓度对常压化学气相沉积ZrC涂层的影响被引量:4
2010年
采用ZrCl4-CH4-H2-Ar体系在C/C材料基体上进行常压化学气相沉积(APCVD)制备碳化锆(ZrC)涂层。通过X射线衍射技术(XRD)和扫描电镜(SEM)对不同H2浓度下制备的ZrC涂层进行分析。对H2在沉积过程中的作用机制进行了讨论。结果表明:H2浓度对涂层的相组成、晶体的择优取向和结构形态有重要影响;无H2或H2浓度较低时,涂层含有大量的热解碳,由ZrC和碳两相组成,涂层呈多孔颗粒状;当H2浓度(体积分数)增加到30%以上时,涂层的相成分变为单一ZrC相;当H2的浓度增加到90%时,ZrC晶体取向由(111)、(200)转变为强烈的(220)择优取向,晶粒形貌变为纳米针状。
李国栋郑湘林熊翔孙威
关键词:常压化学气相沉积
常压化学气相沉积ZrC涂层动力学与组织结构被引量:3
2011年
以ZrCl4-CH4-H2-Ar为反应体系,采用常压化学气相沉积(APCVD)法在1 473~1 873 K制备ZrC涂层,用X线衍射和扫描电镜分析涂层的相成分、ZrC晶粒择优生长及微观形貌,研究ZrC涂层沉积动力学和涂层组织结构。研究结果表明:随沉积温度的升高,APCVD ZrC涂层的沉积速率增大,ZrC微晶表观尺寸也相应增大;1 473~1 673 K沉积时,化学气相沉积过程的表观活化能为71.69 kJ/mol,沉积过程由化学动力学控制;1 673~1 873 K沉积时,过程的表观活化能为14.28 kJ/mol,沉积过程由扩散控制。沉积温度由1 473 K上升至1 673 K时,ZrC晶粒的择优生长取向由-220-转变为-200-,ZrC涂层组织为典型的针状晶结构,涂层较疏松、粗糙;1 873 K沉积时,ZrC晶粒呈短柱状,ZrC涂层致密平整,且沉积速率最高。
郑湘林李国栋熊翔孙威
关键词:化学气相沉积碳化锆沉积动力学
共1页<1>
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