李绪亮
- 作品数：5 被引量：14H指数：2
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国际热核聚变实验堆计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术冶金工程化学工程更多>>
- 钒合金基体电沉积钨涂层的研究
- 李绪亮
- 关键词：聚变能钨涂层钒合金电沉积
- 电沉积钨及钨合金涂层的研究进展被引量：11
- 2012年
- 金属钨及含钨涂层具有优良的性能,如高熔点、高硬度、良好的化学稳定性和较低的热膨胀系数,在多个领域被广泛应用,金属钨及含钨涂层有很多制备方法,其中电沉积法具有重要的地位。综述了熔盐电沉积钨涂层及溶液电沉积钨合金涂层的研究进展,并展望了熔盐电沉积钨涂层及溶液电沉积钨合金涂层的发展趋势。
- 刘其宗张迎春刘艳红李绪亮江凡葛昌纯
- 关键词：电沉积钨涂层钨合金
- 一种陶瓷微球的制备方法
- 本发明提供了一种陶瓷微球的制备方法，其特点包括：将陶瓷微球的反应物原料、分散剂和水，经过机械搅拌或球磨后制得分散性好的均匀悬浊液浆料，并作消泡处理。经消泡处理后的浆料通过分散装置滴入到预先刻有圆形凹槽的疏水性粉末中，液滴...
- 张迎春洪明李绪亮刘艳红
- 文献传递
- 一种陶瓷微球的新型制备方法
- 本发明提供了一种陶瓷微球的新型制备方法，其特点包括：将陶瓷微球的反应物原料、分散剂和水，经过机械搅拌或球磨后制得分散性好的均匀悬浊液浆料，并作消泡处理。经消泡处理后的浆料通过分散装置滴入到预先刻有圆形凹槽的疏水性粉末中，...
- 张迎春洪明李绪亮刘艳红
- 文献传递
- 电流密度对V-4Cr-4Ti合金基体上电沉积W涂层显微结构的影响被引量：3
- 2013年
- 利用Na_2WO_4-WO_3熔盐体系在V-4Cr-4Ti合金基体上电沉积制备了金属W涂层,在电流密度为10-160 mA/cm^2范围内研究了电流密度对金属W涂层的显微结构和力学性能的影响.研究结果表明,增大电流密度促进了W晶核的生长以及晶粒尺寸的增大.W原子更容易在V-4Cr-4Ti合金基体上形核,而在初始W晶核上继续沉积主要是W晶核长大的过程,电流密度较大(100 mA/cm^2)时,W涂层的金相组织呈柱状和条状结构,电流密度较小时,W涂层组织呈牙柱状.W涂层的硬度随着电流密度的增加而下降,W涂层与V-4Cr-4Ti合金基体的结合强度超过59.36 MPa.电流密度为10 mA/cm^2时,虽然涂层厚度仅有10μm,但W涂层晶粒尺寸小于5μm,涂层硬度、电流效率以及涂层和基体的结合力达到最大值,分别为628.42 HV,99.71%和96 N.
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- 关键词：电沉积电流密度
