孟凡宇
- 作品数：2 被引量：3H指数：1
- 供职机构：中国民航大学基础实验中心更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术更多>>
- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌
- 2012年
- 本工作将阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法结合形成复合镀膜工艺,即用电弧蒸发Ti靶的同时,用磁控溅射Al靶,并通入反应气体N2,以在高速钢基底上镀制AlTiN薄膜,考察了复合镀膜方法获得的AlTiN薄膜的表面形貌,并将其与单一法镀膜的表面形貌进行了对比分析。电弧离子镀制备的AlTiN薄膜表面颗粒很多,而且尺寸大,表面很粗糙,磁控溅射制备的AlTiN薄膜表面光滑平整,复合镀得到的AlTiN薄膜表面粗糙度介于二者之间,但从形貌上看,复合镀的薄膜呈现出典型的层状生长特征,在SEM下可清晰地看到表面的层状生长在部分区域不完全。测试发现,复合镀薄膜形貌并不是电弧镀和溅射镀薄膜形貌的简单混合,而是具有自身独特的特征,这可能是由于电弧弧光等离子体与溅射的辉光等离子体相互作用的结果。
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- 关键词：表面形貌
- 偏压对电弧镀TiN薄膜结构和机械性能的影响被引量：3
- 2012年
- 采用SA-6T电弧离子镀设备在抛光后的W18Cr4V高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,考察偏压对薄膜结构和机械性能的影响.通过扫描电镜观察了TiN薄膜的表面形貌,采用X射线衍射仪对结构进行物相分析,利用XP-2台阶仪测试了薄膜的厚度,并用纳米压痕仪和多功能表面测试仪分别对薄膜的硬度和膜基结合力进行测量.结果表明:随着负偏压的增加,具有面心立方结构的TiN薄膜沿(111)密排面的择优生长明显加强;薄膜厚度(沉积速率)呈现先增大后减小的趋势,在负偏压为100V时达到最大;薄膜综合力学性能在负偏压为200V时达到最佳.
- 佟莉娜黄美东孟凡宇刘野许世鹏薛利
- 关键词：电弧离子镀TIN薄膜偏压机械性能
