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付萍

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：浙江警官职业学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇亚微米
  • 1篇深亚微米
  • 1篇微米
  • 1篇卷积
  • 1篇卷积核
  • 1篇光刻
  • 1篇光学邻近效应
  • 1篇IC
  • 1篇超深亚微米

机构

  • 1篇浙江警官职业...

作者

  • 1篇付萍

传媒

  • 1篇微电子学与计...

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
一种超深亚微米下IC光刻透射成像的快速算法
2006年
光学邻近效应校正(OPC)是下一代集成电路设计和生产的重要工具。但是在OPC中,为了寻找合适的掩模补偿图形,必须迭代计算大量的空间稀疏分布的试探点成像。在这里提出了一种基于卷积核的快速稀疏空间光强的光刻仿真计算方法。一个双线性光学系统分解成为一组空间域卷积核,并通过对版图的空间域卷积来计算空间光强。与采用Hopkins公式的SPLAT相比,这种方法能快速地计算空间光强。尤其对于大面积计算显得更为有效。
付萍
关键词：超深亚微米光刻光学邻近效应卷积核
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