周朝花
- 作品数：3 被引量：10H指数：2
- 供职机构：长沙理工大学化学与生物工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金长沙市科技计划项目湖南省科技计划项目更多>>
- 相关领域：化学工程理学更多>>
- 化学镀锡中光亮剂PPS、咪唑和HD在Sn表面的吸附作用实验与模拟研究被引量：4
- 2018年
- 目的研究以丙烷磺酸吡啶嗡盐(PPS)、咪唑、己炔二醇(HD)为代表的三大类光亮剂,在化学镀锡过程中改善镀锡层表观形貌和影响镀速的作用机理。方法采用电化学阴极极化法,研究化学镀锡过程中光亮剂分子对镀锡液在沉锡过程中对沉锡峰电位变化的影响,运用Forcite模块中的COMPASS力场进行分子动力学计算,研究光亮剂分子在Sn层表面吸附过程的能量变化。结果阴极极化结果表明,光亮剂的加入会使沉锡峰电位负移,该过电位导致晶核水平增长速度大于垂直生长速度,从而起到整平作用,并在一定程度上抑制晶须的形成。分子动力学计算结果显示,PPS、咪唑、HD均有自发吸附到Sn层表面的趋势,且在Sn(111)面的吸附能分别为-445.338、-9.84、-22.651kcal/mol,表明三种光亮剂分子均易吸附在Sn层表面(吸附能数据越低,越容易吸附在锡层表面),从而在一定程度上抑制锡层的增长。结论光亮剂与Sn作用的吸附能,与其在化学镀过程中对Sn层表观形貌的改善和镀速减少有正相关作用。该研究为化学镀锡过程中光亮剂的选择提供了理论基础。
- 肖忠良曾鹏周朝花夏妮刘青池振振吴道新宋刘斌曹忠黄勇周光华
- 关键词：化学镀锡光亮剂吸附能
- 高深宽比小口径微通道电化学沉积研究进展被引量：1
- 2018年
- 文章针对20/14 nm节点以下三维封装高密度(10~4/mm^2)、高深宽比(≥10)、小口径(≤5μm)垂直互连微通道的成形制造,解决复杂电场下离子的选择输运与界面快速沉积生长机制、微通道无缺陷快速填充原理、多场耦合作用下时变填充过程建模等基本科学问题,探索微通孔电化学沉积、多介质薄膜的离子增强原子沉积。
- 肖忠良李德志乐玉平周朝花
- 关键词：微通道电化学电场
- 一种化学还原镀金液复合配位剂的研究被引量：6
- 2017年
- 目的研究由乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)、乙二胺四亚甲基膦钠(EDTMPS)和柠檬酸三铵(C_6H_5O_7(NH_4)_3)组成的复合配位剂,在不同浓度及pH下,对金沉积速率、镀金液稳定性、金镀层结构及性能的影响。方法用化学镀的方法在树脂基体上先预镀覆Cu-Ni-Pd金属层,然后制备金镀层。采用正交实验法,研究复合配位剂浓度及pH对金层沉积速率、镀金液稳定性、结合力、光亮度的影响。借助扫描电镜及能谱,分析不同优化组合镀液配方制备的镀层形貌及成分。结果以镀金沉积速率为评价指标时的最优组合为A_2C_3D_3B_2,以镀液稳定性为评价指标时的最优组合为A_2C_2B_3D_2,以镀层结合力为评价指标时的最优组合为A_2D_2B_2C_2,以镀层光亮度为评价指标时的最优组合为A_3C_1D_2B_2。将4个单一评价指标的最优组合重复实验,实验结果表明,当EDTA-2Na为15 g/L、EDTMPS为3 g/L、C_6H_5O_7(NH_4)_3为30 g/L、pH为6.0时,镀液稳定性最高,可达6 MTO;镀层沉积速率最快,可达0.0066μm/min;镀层结合力可达5级,光亮度可达1级。结论采用EDTA-2Na、EDTMPS和C_6H_5O_7(NH_4)_3组成的复合配位剂,在适当的pH下能够提高镀层沉积速度及镀液稳定性,改善镀层表面形貌。
- 肖忠良卢意鹏刘姣曾鹏周朝花吴蓉吴道新曹忠
- 关键词：沉积速率稳定性结合力光亮度
