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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氧化铪
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇射线衍射
  • 1篇涂层
  • 1篇绝缘
  • 1篇绝缘涂层
  • 1篇溅射
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇北京科技大学

作者

  • 1篇张师平
  • 1篇宋斌斌
  • 1篇闫丹
  • 1篇赵以德
  • 1篇陈森
  • 1篇吴平
  • 1篇赵守田
  • 1篇周多文

传媒

  • 1篇核技术

年份

  • 1篇2009
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
氧氩比对低活化马氏体钢表面氧化铪涂层性能的影响
2009年
本文采用射频磁控溅射法在不同氧氩比下制备氧化铪涂层。研究了涂层的沉积速率、表面形貌、微观结构和电绝缘特性随氧氩比的变化。结果表明用此方法在低活化马氏体钢上制备的氧化铪涂层表面致密、无明显孔洞;低活化马氏体钢为衬底时涂层较易结晶为以单斜相为主的晶体结构;且涂层的绝缘特性受氧氩比影响较大,氧氩比为0.7和1.2下制备的涂层击穿场强小于1MV/cm,电绝缘特性较差,在较低氧氩比下制备的涂层有较理想的绝缘性能。
宋斌斌吴平周多文闫丹赵以德赵守田张师平陈森
关键词:射频磁控溅射氧化铪X射线衍射绝缘涂层
共1页<1>
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