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袁安富

作品数:11 被引量:19H指数:2
供职机构:南京航空航天大学机电学院更多>>
相关领域:理学金属学及工艺一般工业技术冶金工程更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 6篇理学
  • 4篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程
  • 1篇冶金工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 6篇类金刚石
  • 5篇PVD
  • 2篇电弧
  • 2篇真空
  • 2篇喷涂
  • 2篇钛合金
  • 2篇膜厚
  • 2篇金刚石薄膜
  • 2篇金刚石膜
  • 2篇类金刚石薄膜
  • 2篇类金刚石膜
  • 2篇合金
  • 2篇厚度测量
  • 2篇薄膜厚度
  • 2篇触发电路
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子喷涂
  • 1篇等离子装置

机构

  • 11篇南京航空航天...
  • 1篇东南大学
  • 1篇南京工程学院

作者

  • 11篇袁安富
  • 8篇王珉
  • 2篇程仲元
  • 1篇顾成军

传媒

  • 2篇南京航空航天...
  • 2篇表面技术
  • 1篇新技术新工艺
  • 1篇机械设计与制...
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇材料开发与应...
  • 1篇江苏机械制造...

年份

  • 2篇2001
  • 3篇2000
  • 5篇1999
  • 1篇1988
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
过滤式真空等离子沉积类金刚石薄膜的基础研究
在该实验中,以自制实验装置为基础,对阴极电弧沉积类金刚石薄膜的理论和实验进行了系统的研究.主要开展以下几项工作:根据真空等离子沉积类金刚石膜的要求,重新研制了整个沉积系统.改进了原有系统中的触发电路、励磁电路和冷却系统,...
袁安富
关键词:类金刚石薄膜PVD电路电弧喷镀单晶硅
文献传递网络资源链接
真空等离子装置的改进设计
1999年
利用旧的真空装置改造成一个物理气相沉积设备,不仅节约了大量的资金,而且还为今后的科研工作开辟了一个崭新的领域。本文主要讨论了在改造过程中,根据物理气相沉积的共性以及本实验装置的特定要求和需要注意的几个问题,如一个真空沉积腔的整体结构、密封性和冷却结构,如何有效地利用载物台、励磁电路和点火电路的设计等,提出了改造方案。目前,已成功地将它改造成真空度为10- 2τ的低真空等离子沉积装置。
袁安富王珉
关键词:等离子喷涂类金刚石等离子装置
用石墨渗进砂轮磨削钛合金的研究
袁安富
关键词:石墨砂轮磨削
薄膜沉积中基片的清洗方法探讨被引量:9
1999年
随着科学技术的发展,人们对材料的性能要求也愈来愈严格,有些性能往往很难用常规的工艺手段同时在一种材料母体上实现,因而用气相沉积的方法如化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)等在材料表面上涂敷一层薄膜是赋于材料某些特殊的功能的一种比较理想的途径...
袁安富王珉
关键词:基片清洗法
钛合金小直径盲孔攻丝加工被引量:2
2000年
随着科学技术的发展 ,对材料的性能要求越来越高 ,而对这些材料的加工也成了加工业的一个难点 ,钛合金就是其中之一。这里主要阐述了钛合金在小直径攻丝中所遇到的问题及相应的解决方法。
顾成军袁安富
关键词:攻丝钛合金丝锥
真空弧沉积类金刚石膜探讨被引量:2
2001年
根据等离子沉积的原理,将原真空热处理炉改造成低压真空等离子沉积装置,采用 过滤式阴极电弧沉积法分别在单晶硅和高速钢这两种基体上沉积出类金刚石膜。对所沉积的 膜进行了机械性能和防腐蚀性能的试验。结果表明:① 这一装置的改造取得了初步成功, 为今后进一步改进和优化打下了基础;② 运用该装置在单晶硅基体上所沉积的类金刚石膜 要比在高速钢基体上所沉积的类金刚石膜性能好。
袁安富王珉
关键词:PVD类金刚石膜
类金刚石薄膜厚度的测量被引量:2
2001年
采用真空等离子沉积法沉积了类金刚石膜 ,采用椭圆偏振光测量法测量了薄膜的厚度。
袁安富王珉
关键词:厚度测量PVD类金刚石薄膜
物理气相沉积法沉积类金刚石膜时触发电路的设计
1999年
在物理气相沉积过程中,触发真空间隙是整个试验过程中最基本的一步,很多因素影响真空间隙的成功触发,本文对此加以讨论,并提供一个合适的触发电路.
袁安富程仲元王珉
关键词:类金刚石膜PVD触发电路
真空等离子沉积中真空电弧的产生及触发电路的设计被引量:2
2000年
在真空等离子沉积中 ,首先要触发真空电弧 ,由于等离子沉积本身所具有的复杂性 ,要成功地触发真空电弧必须考虑很多因素 ,如 :阴极的材料、电极的结构、阴阳两电极之间的间隙、电极的表面状态、触发方式等。文中对影响触发电弧的因素以及在设计触发电路时需要考虑的因素作了一定的分析 ,并在此基础上 。
袁安富程仲元王珉
关键词:触发电路电弧喷涂真空
在真空等离子沉积中起弧和电弧稳定性问题研究被引量:1
1999年
在真空系统中,电弧的触发和稳定性受到很多因素的影响,如:阴极的材料、电极的结构、阴阳两电极之间的间隙、电极的表面状态、触发方式等。本文对于低真空状态下的电弧触发和稳定性问题作了探讨并提出了适合于本装置的较合理的参数。
袁安富王珉
关键词:电弧稳定性起弧
共2页<12>
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