殷履文
- 作品数：12 被引量：0H指数：0
- 供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术经济管理化学工程更多>>
- 一种在光刻机上实现4英寸GaN圆片曝光工艺的方法
- 本发明是一种在光刻机上实现4英寸GaN圆片曝光工艺的方法，包括如下步骤：（1）更换找中心传感器；（2）安装、固定找中心传感器；（3）更换找平边传感器；（4）通过设计的定位块安装、固定找平边传感器；（5）设计信号处理电路，...
- 刘磊殷履文李永康王发稳
- 文献传递
- 一种调节磁控溅射镀膜均匀性的装置
- 本发明涉及一种调节磁控溅射镀膜均匀性的装置，其结构包括旋转大鼓和竖直溅射靶材，其中竖直溅射靶材设于旋转大鼓的外侧，与旋转大鼓的旋转轴线位于同一平面；竖直溅射靶材由均匀性挡板、金属靶材、电路及靶材冷却系统组成。优点：1）提...
- 夏久龙解晗周明祥张春胜陈磊殷履文
- 一种调节离子铣均匀性的方法
- 一种调节离子铣均匀性的方法，其特征是通过调节圆筒离子源的高度、倾斜的角度以及添加均匀性挡板来调整行星盘中圈11、行星盘外圈12上晶片的离子铣均匀性。本发明既稳定了离子铣的均匀性，又提高了产能及设备的利用率，满足了工艺生产...
- 殷履文夏久龙解晗
- 文献传递
- 一种调节磁控溅射镀膜均匀性的装置
- 本发明涉及一种调节磁控溅射镀膜均匀性的装置，其结构包括旋转大鼓和竖直溅射靶材，其中竖直溅射靶材设于旋转大鼓的外侧，与旋转大鼓的旋转轴线位于同一平面；竖直溅射靶材由均匀性挡板、金属靶材、电路及靶材冷却系统组成。优点：1）提...
- 夏久龙解晗周明祥张春胜陈磊殷履文
- 文献传递
- 半导体专用设备的真空系统维修
- 2011年
- 描述了真空设备在半导体行业中的运用,通过分析影响真空设备极限真空度的3个主要原因,讲述了真空设备检修方法及措施。
- 殷履文刁振国王振亚
- 关键词：真空检漏
- SB6键合机工艺腔净化过程的软件改进(英文)
- 2007年
- 分子泵是高真空系统的核心部件,通过对SB6键合机真空系统和分子泵特性的分析,总结讨论了3个可能导致分子泵损坏的键合工艺过程,最后,提出对工艺腔净化过程的一个软件改进办法,这个改进的思路对从事半导体设备维修的专业人员而言是有一定帮助的。
- 王敏杰吴璟殷履文王长发
- 关键词：分子泵
- ADT7100划片机的使用和维护
- 2012年
- 划片是电子器件封装工艺中重要的工艺之一,是将一整片晶圆切割成每个独立的个体,芯片切割的质量直接影响封装的质量和器件的性能。划片机有SAW类型的划片机,还有激光划片机。作者多年以来一直从事划片工艺,现对在用的ADT7100机器的结构、维修和维护作介绍,同时简单分析划片工艺。
- 刁振国殷履文臧成东
- 关键词：电子封装划片机
- 一种在光刻机上实现4英寸GaN圆片曝光工艺的方法
- 本发明是一种在光刻机上实现4英寸GaN圆片曝光工艺的方法，包括如下步骤：（1）更换找中心传感器；（2）安装、固定找中心传感器；（3）更换找平边传感器；（4）通过设计的定位块安装、固定找平边传感器；（5）设计信号处理电路，...
- 刘磊殷履文李永康王发稳
- 一种氯基尾气处理装置
- 本实用新型是氯基尾气处理装置，其结构包括氯基尾气处理装置，其结构包括主体外壳、循环泵、液体进泵浦及排放管路、进水口、大喷头、A电磁阀、不锈钢管路、B电磁阀、进气管路、手动阀、排液管路、小喷头、城市水进口端、压力传感器；其...
- 夏久龙解晗周明祥张春胜刘磊殷履文
- 投影光刻中相位光栅对准标记变形解决方案
- 2011年
- 描述了相位光栅对准法在步进重复投影光刻机中的运用,通过比较同轴对准系统和离轴对准系统的原理,工作过程,阐述了当对准标记产生变形时离轴对准系统能更好地修正偏差从而保证光刻工艺中套刻精度的要求。
- 殷履文盖玉喜
- 关键词：相位光栅
