杨明敏
- 作品数：7 被引量：22H指数：3
- 供职机构：天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术机械工程金属学及工艺更多>>
- 磁控溅射功率对光学氧化钒薄膜结构和性能的影响被引量：11
- 2015年
- 采用射频磁控溅射法制备氧化钒(VOx)薄膜,研究溅射功率对氧化钒薄膜结构、光学及力学性能的影响。利用表面轮廓仪、X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计、椭偏仪及纳米压痕仪分析在不同溅射功率下制备的氧化钒薄膜的沉积速率、物相结构、表面形貌、紫外-近红外光透射率、折射率、吸光度以及硬度和弹性模量。结果表明,各功率参数下沉积的氧化钒薄膜的光透射率基本都大于80%,属于弱吸收透明膜。随溅射功率的增大,薄膜的沉积速率、硬度和可见光范围内的折射率都单调增大,而表面粗糙度则出现先增大后减小的变化。溅射功率对薄膜的晶体结构也有一定的影响。
- 张建鹏黄美东李园杨明敏张鹏宇
- 关键词：氧化钒射频磁控溅射溅射功率
- 氧分压对溅射氧化钒薄膜结构和透光性能的影响被引量：3
- 2014年
- 采用射频磁控溅射法,在K9抛光玻璃基底上沉积氧化钒(VOx)薄膜,研究在其他参数保持不变时氧分压参量对薄膜的结构、表面质量及透光性能的影响。利用表面轮廓仪、X射线衍射仪、原子力显微镜及分光光度计分别对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和紫外-近红外光透射率进行分析。结果表明,制备的VOx薄膜的晶相随氧分压不同发生改变,调整氧分压在可见-近红外光区域可获得弱吸收的光学膜,但氧分压过高只能获得低的薄膜沉积速率,氧分压对薄膜表面粗糙度及晶体生长模式也有不同程度的影响。本文对实验结果进行了分析和讨论。
- 唐晓红黄美东杜姗刘春伟高倩王小龙张建鹏杨明敏
- 关键词：氧化钒射频磁控溅射氧分压
- 磁控溅射功率对Ti掺杂ZnO薄膜结构和光电性能的影响
- 2016年
- 为了深入研究Ti掺杂ZnO薄膜的光电性能,采用射频磁控溅射技术在硅和玻璃基底上沉积Ti掺杂ZnO(TZO)薄膜.分别利用表面轮廓仪、X线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、UV-3600分光光度计和HMS-2000霍尔效应测试系统等表征手段分析溅射功率对TZO薄膜微观结构及光电性能的影响.结果表明:溅射功率对薄膜样品沉积速率的影响呈现先升后降的趋势,对电阻率的影响正好相反.当溅射功率为100W时,薄膜的沉积速率最大,为7.96nm/min,此时电阻率为最小的1.02×10-3Ω·cm;所有TZO薄膜在可见光波段的平均透过率均高于80%,为透明导电薄膜.Ti掺杂后的ZnO薄膜仍为六角纤锌矿结构,具有良好的c轴择优取向,溅射功率为100W时其微观结构均匀、平整、致密,表面形貌最好.
- 李园黄美东张建鹏杨明敏高倩
- 关键词：射频磁控溅射溅射功率光电性能
- 用铝丝掺杂溅射ZnO薄膜的光电性能研究
- 2015年
- 本文采用射频磁控反应溅射法于常温下在硅片和玻璃基片上制备ZnO和掺铝ZnO薄膜,将铝丝置于ZnO靶材上共同溅射来达到掺杂的效果,利用不同长度的铝丝以获得不同的掺杂量。通过X射线衍射法对薄膜进行结构分析,利用紫外-可见分光光度计获得薄膜的透过率光谱,霍尔效应仪测量薄膜的电学性能。发现所制备的样品在可见光区域透过率达到80%以上,达到了透明膜的要求;掺Al后的ZnO膜电阻率最低达到了4.25×10-4Ω·cm;结构表征发现样品的(002)晶面有明显衍射峰。基于包络线方法通过透射谱拟合计算了薄膜样品的折射率和厚度。
- 王小龙黄美东张建鹏高倩杨明敏
- 关键词：氧化锌薄膜射频磁控溅射光学性能载流子浓度
- CoO膜厚对磁控溅射Co/CoO薄膜结构和磁性能的影响被引量：1
- 2015年
- 为了探究FM/AFM双层膜中的交换偏置现象,利用磁控溅射法制备Co/Co O薄膜,通过改变沉积时间获得了不同Co O层厚度的Co/Co O双层膜系。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、交变梯度磁强计(AGM)、超导量子干涉仪(SQUID)分别对样品的物相结构、表面形貌及磁性能进行分析和表征。结果表明,AFM层厚度对表面形貌有一定的影响,但表面成分不随AFM层厚度的变化而变化。所有样品的XRD谱均出现Co O(002)衍射峰,说明薄膜为晶态。不同厚度的Co/Co O双层膜样品表现出不同的矫顽力和偏置场,低温下样品的磁滞回线表现出明显的交换偏置效应,并且磁偏移量随膜层厚度增加呈现逐渐增大的趋势。当Co O厚度为62.5nm时,偏置场最大可达到420k A/m。
- 高倩黄美东王小龙杨明敏
- 关键词：交换偏置磁性能
- 沉积气压对杂化离子镀TiCN薄膜结构和性能的影响被引量：6
- 2015年
- TiCN薄膜在刀模具领域有着广泛的应用前景,但它的结构和性能往往随制备工艺参数的不同而有较大差异。为了研究沉积气压对杂化离子镀TiCN薄膜结构和性能的影响,找到合适的Ar和N2分压比以优化工艺参数,采用杂化离子镀技术在高速钢、硅片以及不锈钢片表面制备TiCN薄膜,通过改变沉积过程中Ar和N2的分压获得不同的薄膜。用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、维氏硬度计、摩擦磨损仪、XP-2台阶仪对薄膜的物相结构、表面形貌、显微硬度、摩擦因数和沉积速率进行表征。结果表明:TiCN膜层择优生长方向主要表现为TiCN相的(111)晶面;试验中保持Ar分压为0.1Pa不变,增加N2分压,即沉积气压增大,薄膜的显微硬度先升高再降低,对应摩擦因数先降低再升高,沉积速率不断减小最终趋于平缓,而表面形貌受沉积气压变化的影响很小。
- 王宇黄美东李云珂陈泽昊张臣杨明敏
- 关键词：显微硬度摩擦磨损性能
- Cu-Al共掺磁控溅射ZnO薄膜的结构和性能研究被引量：2
- 2016年
- 利用FJL560CI2型磁控溅射仪,通过改变掺杂所用的铜丝长度而保持铝丝长度不变,制备了掺杂浓度和掺杂比例不同的Cu-Al共掺ZnO薄膜。通过X射线衍射图谱来分析薄膜样品的微观结构特征,采用扫描电子显微镜观察了样品的表面形貌,样品的电学性能和光学性能分别利用HMS-2000霍尔效应测试仪和UV-3600分光光度计来测试。结果表明,向ZnO薄膜中掺杂铜铝能够将ZnO薄膜的电阻率从108数量级降到10-2数量级,而对其在可见光范围内的优良透过率几乎没有影响,Cu-Al共掺是获得透明导电ZnO薄膜的一种有效方式。
- 杨明敏陈芊黄美东张建鹏李园王宇
- 关键词：电学性能光学性能
