马美娟
- 作品数：10 被引量：7H指数：2
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- 贝塞尔公式推导的再研究被引量：3
- 2011年
- 对文献[1]从标准差的本质和作用入手,采用算术平均值的标准差来证明贝塞尔公式的方法提出疑问,在此基础上给出一种有效的解决方法.另外,提出了一种利用概率统计中方差及数学期望的定理证明贝塞尔公式的新方法.
- 马美娟
- 关键词：标准差
- 介观LC电路数-相空间的量子涨落
- 2008年
- 从电路系统的Lagrange量入手,利用数-相量子化方案,将介观LC电路量子化,得到了数-相算符表示的Hamiltonian,研究了真空态和压缩真空态下电路中电荷数和相位差的量子涨落.结果表明在真空态下的量子涨落只与电路器件的参数有关,而在压缩真空态下的量子涨落不仅与器件参数有关,还和压缩参数有关.
- 马美娟
- 关键词：介观LC电路量子涨落
- 两种示波器示波原理分析法的比较
- 2011年
- 通过对两种示波器示波原理分析法的比较,在分别指出其不足之处的基础上,总结出一种分析任意波形形成原理的方法,并举实例证明该方法的可行性。
- 马美娟
- 关键词：示波器任意波形
- 两粒子相对坐标与玻色湮灭算符之和的共同本征态及其纠缠性分析
- 2009年
- 基于两粒子相对坐标x^1-x^2与玻色湮灭算符之和a^1+a^2对易,借助IWOP技术构造了其共同本征态|β,x〉,发现该态既具有相干态的某些特征,又是一类纠缠态.通过对|β,x〉作Shmidit分解和单边积分,证明了其纠缠性以及与理想EPR纠缠态的关系——|β,x〉沿着β1轴叠加即可生成理想的EPR纠缠态.
- 马美娟
- 关键词：本征态纠缠态相干态
- 用纠缠态表象推导广义Ehrenfest定理被引量：1
- 2009年
- 利用两粒子相对坐标和总动量的共同本征态|η〉构成的连续变量纠缠态表象,推导了转动系统的Ehrenfest定理,从而说明了在满足某些近似的情况下,量子力学不但能够与经典物理完美自洽,而且利用量子力学的规律可以导出相应的经典物理规律.
- 张运海马美娟
- 关键词：纠缠态表象
- 数字电压表容许误差的简便计算方法
- 2011年
- 为了得到求数字电压表容许误差的简便计算方法,通过对数字电压表显示特点和容许误差表示方法的描述,及对先求绝对误差,后运用相对误差公式求解的方法的介绍及探讨,得出了一种根据数字电压表显示特点提出的新方法——直接由容许误差表示公式得出容许误差,并总结出了一个有效的公式。通过实例验证了该公式的正确性和方便性。
- 马美娟
- 关键词：数字电压表计算方法
- 中介坐标—动量表象的性质及应用
- 2011年
- 利用有序算符内的积分技术通过构造高斯型积分推导出了转动的光场正交分量λQ+v P的本征态|x〉λ,v,以此为基组构成了介于坐标表象和动量表象之间的一类新表象.利用该表象求解了算符exp[-f(λQ+v P)2]和(λQ^+v P^)n的正规积,并构造了一个新的幺正算符,将该算符作用到真空态上即可产生一个新的量子光学压缩态.
- 马美娟
- 关键词：正规乘积
- 腔QED中混态双原子系统原子布居数演化被引量：1
- 2011年
- 运用全量子理论和数值计算方法,研究了双J-C模型中处于混态的双原子系统粒子布居差的时间演化规律,讨论了原子初态及腔内光场对粒子布居差演化的影响。计算结果表明:当两腔内的平均光子数相同时,布居差的演化只与两原子的初态纯度和光场强度有关,与两原子的初始纠缠无关;而当两光腔内的平均光子数不同时,粒子布居差演化不仅与两原子初态纯度和腔内光场有关,而且还强烈地依赖于两原子的初始纠缠。
- 马美娟
- 关键词：量子光学原子布居数腔量子电动力学
- 利用波形换算判断交流电压表的检波方式
- 2011年
- 为了确定某一未知交流电压表的检波方式,根据交流电压表测量电压时的波形换算方法及其适用范围,提出了一种判断交流电压表检波方式的新方法:将正弦波信号和方波信号分别接到所用电压表上,调节信号幅度,使电压表的示值相等,保持这两种信号不变,根据示值得出两种信号的有效值、平均值和峰值并比较其大小。若两者峰值相等,则可判断检波方式为峰值检波;若两者平均值相等,则可判断为均值检波;若两者有效值相等,则可判断为有效值检波。通过实验实例证实了该方法简单可行,进而提供了一种判断交流电压表检波方式的有效方法。
- 马美娟
- 关键词：交流电压表检波方式
- KrF准分子激光刻蚀PMMA研究被引量：2
- 2011年
- 为了研究准分子激光刻蚀聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的内在机理,将波长为248nm的KrF准分子激光垂直照射到PMMA材料表面,改变激光能量和脉冲数目,在大气背景下进行实验,照射后样品的表面形貌及化学结构用扫描电子显微镜(SEM)、3维形貌分析仪、X射线光电子能谱(XPS)等手段进行分析。SEM测试表明,在刻蚀区域出现孔状结构,说明刻蚀过程中有气体成分产生。XPS测试表明,激光照射后C1s峰的强度减弱而O1 s峰增强,据此推测PMMA侧链上的甲基被刻蚀掉且空气中的O_2参与了反应。另外还研究了激光能量和脉冲数目对刻蚀率和表面粗糙度的影响。结果表明,随着激光能量和脉冲数目增加,刻蚀率和粗糙度并不是一直呈现递增的趋势。
- 马美娟张运海满宝元
- 关键词：光与物质相互作用激光刻蚀高分子聚合物有机玻璃
