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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇ZNO薄膜
  • 1篇电特性
  • 1篇形貌
  • 1篇氧化锌
  • 1篇深能级
  • 1篇退火
  • 1篇能级
  • 1篇热退火
  • 1篇光电
  • 1篇光电特性
  • 1篇CVD
  • 1篇CVD法
  • 1篇DLTS

机构

  • 2篇中国科学技术...

作者

  • 2篇傅竹西
  • 2篇田珂
  • 1篇钟声
  • 1篇张伟英
  • 1篇徐小秋
  • 1篇刘磁辉
  • 1篇苏剑锋
  • 1篇施媛媛

传媒

  • 2篇发光学报

年份

  • 2篇2008
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
CVD法制备ZnO薄膜生长取向和表面形貌被引量:6
2008年
利用具有特定温度梯度的CVD设备,以锌粉和氧气为原料,在Si(100)衬底上制备了ZnO薄膜。研究发现,锌粉中加入某些氯化物后可以改变ZnO薄膜的生长取向。用FESEM观察ZnO薄膜的表面形貌,发现Zn和氯化物的量比为1∶1时,生长的ZnO薄膜表面晶粒呈菱形或三角形({101}面),当二者的量比为10∶1时薄膜表面晶粒呈六棱台形({001}面)。XRD分析结果证实,前者只观察到(101)和(202)衍射峰,而后者出现(002)衍射峰且其强度大于(101)衍射峰。改变衬底或温度后得到的结果相同。因此,作者认为氯化物改变薄膜生长取向的现象与衬底和生长温度无关,添加的氯化物起到降低ZnO{101}面表面能的作用,随着氯化物浓度的增加,薄膜从沿[001]方向生长逐渐转向沿[101]方向生长。
田珂施媛媛徐小秋钟声傅竹西
关键词:CVDZNO薄膜
ZnO薄膜的椭偏和DLTS特性被引量:5
2008年
用射频磁控溅射在硅衬底上淀积氧化锌薄膜,并对样品分别作氮气、空气、氧气等不同条件下退火处理。为研究退火气氛对ZnO/Si薄膜中缺陷以及折射率的影响,由深能级瞬态谱(DLTS)以及椭偏测量方法进行了检测。椭偏测量结果表明相对原始生长的样品,在氮气和空气退火使ZnO薄膜折射率下降,但氧气中退火使折射率升高。我们对折射率的这种变化机理进行了解释。DLTS测量得到一个与Zni**相关的深能级中心E1存在,氧气气氛退火可以消除E1能级。在氮气退火情况下Zn*i*的存在对抑制VO引起的薄膜折射率下降有利。
刘磁辉苏剑锋张伟英田珂傅竹西
关键词:氧化锌热退火深能级光电特性
共1页<1>
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