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舒谊

作品数:2 被引量:12H指数:2
供职机构:国防科学技术大学机电工程与自动化学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:机械工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 2篇离子束
  • 2篇面粗糙度
  • 2篇表面粗糙度
  • 2篇粗糙度
  • 1篇熔石英
  • 1篇入射
  • 1篇倾斜入射
  • 1篇斜入射
  • 1篇晶体
  • 1篇KDP晶体
  • 1篇超光滑
  • 1篇超光滑表面

机构

  • 2篇国防科学技术...

作者

  • 2篇周林
  • 2篇解旭辉
  • 2篇李圣怡
  • 2篇舒谊
  • 1篇廖文林
  • 1篇戴一帆
  • 1篇沈永祥

传媒

  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
离子束作用下KDP晶体表面粗糙度研究被引量:4
2011年
为了避免传统加工过程对KDP(Potassium dihydrogen phosphate)晶体表面产生损伤、嵌入杂质等降低晶体抗激光损伤阈值的不利因素,文章探索采用离子束抛光技术实现KDP晶体的加工。本文主要分析了离子束抛光作用下KDP晶体表面粗糙度的演变过程,采用垂直入射和倾斜45°入射两种方式研究KDP晶体表面粗糙度,利用倾斜45°入射的加工方式提高了KDP晶体的表面质量,其表面均方根粗糙度值由初始的3.07 nm减小到了1.95 nm,实验结果验证了离子束抛光加工KDP晶体的可行性。
舒谊周林戴一帆沈永祥解旭辉李圣怡
关键词:KDP晶体表面粗糙度
离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响被引量:9
2012年
基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°~80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光和倾斜45°入射均匀去除两种实验方案进行研究,其中不同入射角度抛光实验研究结果表明:离子束垂直入射抛光较难改善表面粗糙度,倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,入射角为30°~60°之间时抛光效果最佳,表面粗糙度得到明显改善;倾斜45°入射均匀去除抛光实验结果表明表面粗糙度的RMS值由抛光前(0.92±0.06)nm下降到(0.48±0.04)nm,提高了光学零件的表面质量,验证了离子束倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,实现了离子束倾斜抛光超光滑表面的生成.
舒谊周林解旭辉廖文林李圣怡
关键词:倾斜入射熔石英表面粗糙度超光滑表面
共1页<1>
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