矫灵艳
- 作品数：11 被引量：1H指数：1
- 供职机构：天津津航技术物理研究所更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺轻工技术与工程电子电信更多>>
- 一种激光陀螺腔体光学加工后的无损清洗方法
- 本发明公开了一种激光陀螺腔体光学加工后的无损清洗方法，通过预处理和先后在有机Ⅰ液、有机Ⅱ液中浸泡+超声结合的清洗方式，对腔体表面和孔内的松香蜡、保护漆进行有效去除；经过漂洗后，用水基Ⅰ液将剩余的有机污染物分解为易去除的小...
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- 文献传递
- CL-208清洗剂对微晶玻璃超光滑表面低损伤清洗的影响
- 2019年
- 微晶玻璃因其良好的机械性能和较高温度下的化学稳定性而被用作激光陀螺反射镜基底材料,但两相多晶结构又使其清洗后易受腐蚀,损伤超光滑表面。通过对微晶玻璃化学稳定性进行分析,确定适宜清洗微晶玻璃超光滑表面的无腐蚀性清洗剂。通过对清洗剂体积浓度、清洗温度、清洗时间的研究,确定了清洗剂的清洗参数。根据优化后的工艺参数进行清洗,微晶玻璃超光滑表面粗糙度由清洗前的0.117nm降低到清洗后的0.061nm,接触角由清洗前的22.5°降低到清洗后的5.1°,镀膜后积分散射均值为8.0×10^-6,最终获得微晶玻璃反射镜高洁净低损伤超光滑表面。
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- 关键词：清洗剂微晶玻璃超光滑表面
- 复杂结构微晶玻璃光学零件化学抛光技术被引量：1
- 2011年
- 针对激光陀螺光学腔体这种复杂结构的光学零件,采用传统的光学抛光的方法无法对其凹槽、孔道进行抛光的问题,提出了一种采用化学溶液对玻璃进行侵蚀的化学抛光技术。本文分析了微晶玻璃的组成及化学抛光的机理,制备了适合的化学抛光溶液,设计了抛光技术方案、工艺流程及方法。对化学抛光后的光学表面进行了测试、分析,结果表明：采用NH4HF2、H2O、添加剂组成的化抛溶液,抛光后能够得到光滑、透明玻璃表面,抛光表面的粗糙度可达0.2~0.3μm,可见光透过率88%~90%,化学抛光去除量为0~100μm,本研究实现了复杂结构的光学零件的＂确定性＂化学抛光。
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- 关键词：微晶玻璃化学抛光光学加工
- 提高Ge-As-Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方法
- 本发明公开了一种提高Ge‑As‑Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方法，其包括以下步骤：第一步：研磨，研磨包括粗磨和精磨，通过粗磨对硫系玻璃光学表面进行初成形和面形修整，以达到指标要求；精磨采用化学机械研磨方法，进一...
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- 提高Ge-As-Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方法
- 本发明公开了一种提高Ge‑As‑Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方法，其包括以下步骤：第一步：研磨，研磨包括粗磨和精磨，通过粗磨对硫系玻璃光学表面进行初成形和面形修整，以达到指标要求；精磨采用化学机械研磨方法，进一...
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- 用于Ge-As-Se硫系玻璃光学表面加工的化学机械抛光液
- 本发明公开了一种用于Ge‑As‑Se硫系玻璃光学表面加工的化学机械抛光液，包括：抛光粉、化学腐蚀试剂、酸碱试剂、分散剂和去离子水；抛光粉选用氧化铝、钻石粉或氧化铈；化学腐蚀试剂选用碱性试剂或氧化剂，碱性试剂为氢氧化钠、碳...
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- 微晶玻璃光学元件化学抛光工艺研究
- 激光陀螺光学腔体材料为微晶玻璃,工艺要求腔体的内部孔道进行化学抛光。生产中使用了一种新型微晶玻璃,为了满足抛光技术要求,需要研究与之相适合的化学抛光液及抛光工艺。通过玻璃组分和化学抛光机理的分析,制备了适合新型微晶玻璃的...
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- 关键词：化学抛光光学元件微晶玻璃工艺参数
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- 一种激光陀螺腔体光学加工后的无损清洗方法
- 本发明公开了一种激光陀螺腔体光学加工后的无损清洗方法，通过预处理和先后在有机Ⅰ液、有机Ⅱ液中浸泡+超声结合的清洗方式，对腔体表面和孔内的松香蜡、保护漆进行有效去除；经过漂洗后，用水基Ⅰ液将剩余的有机污染物分解为易去除的小...
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- 一种光学胶去除剂及其制备方法
- 本发明公开了一种光学胶去除剂，其包括：羟基苯酚化合物、氯代烷烃、活性剂、溶剂和有机醇、醚；各组分所占质量百分比：羟基苯酚化合物：5％～10％，氯代烷烃：40％～48％，有机醇、醚：3％～8％，活性剂：2％～6％，溶剂为余...
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- 一种微晶玻璃高光亮度化学抛光液及制备方法
- 本发明公开了一种微晶玻璃高光亮度化学抛光液，其组成成分包括：氢氟酸、硫酸、丙三醇、盐酸；其中，氢氟酸为浓度为40％的氢氟酸溶液，硫酸为96％的浓硫酸，盐酸为36.5％的酸溶液；组分按体积份数计，氢氟酸8～14、硫酸6～1...
- 矫灵艳崔莹林娜娜
- 文献传递
