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王东

作品数:3 被引量:1H指数:1
供职机构:西南科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇金刚石薄膜
  • 1篇等离子体化学...
  • 1篇阴极
  • 1篇阴极极化
  • 1篇氢化
  • 1篇微波等离子体
  • 1篇微波等离子体...
  • 1篇微观结构
  • 1篇纳米金刚石薄...
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇富勒烯
  • 1篇富勒烯C60
  • 1篇薄膜生长
  • 1篇N型
  • 1篇掺氮
  • 1篇掺硼

机构

  • 3篇西南科技大学
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 3篇王兵
  • 3篇叶勤燕
  • 3篇王东
  • 3篇周亮
  • 2篇熊鹰
  • 1篇吴高华
  • 1篇李凯
  • 1篇甘孔银
  • 1篇陶波

传媒

  • 1篇现代化工
  • 1篇功能材料
  • 1篇材料导报

年份

  • 3篇2012
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
基于富勒烯液态源的超纳米晶金刚石薄膜生长
2012年
通过微波等离子体化学气相沉积技术(MWPCVD),以富勒烯(C60)甲苯饱和溶液为碳源,用载气携带的方式通入反应腔中生长金刚石膜。Raman光谱、SEM和AFM表征结果表明得到的超纳米晶金刚石薄膜相组成纯度较高,其平均晶粒尺寸约为15 nm,表面粗糙度为16.56 nm,薄膜平均生长速率约为0.6μm/h。此方法较其他以C60为碳源生长超纳米晶金刚石薄膜的方法更为简便,且容易控制富勒烯碳源的浓度,沉积速率更高,是一种新型的制备超纳米晶金刚石薄膜的可控工艺方法。
周亮王兵熊鹰叶勤燕王东吴高华
关键词:富勒烯C60微波等离子体化学气相沉积
掺硼浓度对金刚石薄膜二次电子发射特性的影响被引量:1
2012年
掺硼金刚石薄膜具有负电子亲和势和良好的电子运输性能且容易制备,作为冷阴极材料在图像显示技术和真空技术等领域都存在巨大的应用价值,引起人们的广泛关注。采用MPCVD法利用氢气、甲烷和硼烷的混合气体,制备出不同浓度的掺硼金刚石薄膜。结果表明,掺硼浓度影响金刚石薄膜的物相结构、组织形貌,进而影响其二次电子发射性能,当硼烷的流量为4mL/min时,制备的金刚石薄膜质量最好,二次电子发射系数约为90。
叶勤燕王兵甘孔银李凯周亮王东
掺氮N型纳米金刚石薄膜的电化学表面氢化及表征
2012年
针对掺氮N型纳米金刚石薄膜独特的结构特征,采用温和的电化学阴极表面极化处理成功实现了掺氮N型纳米金刚石薄膜的表面氢化。通过X射线光电子能谱(XPS)、表面接触角、电化学电容-电压分析、Raman光谱、扫描电子显微镜(SEM)表征,详细分析了阴极极化处理前后掺氮N型纳米金刚石薄膜的表面结构以及微观结构。结果表明,该阴极极化处理工艺不仅能够成功获得表面氢终止状态,而且对薄膜的微观结构尤其是晶界处sp2杂化态碳相无明显影响,说明该工艺是一种高效无损的掺氮N型纳米金刚石薄膜表面氢化工艺。
王东熊鹰王兵周亮叶勤燕陶波
关键词:氢化阴极极化微观结构
共1页<1>
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