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彭洋

作品数:3 被引量:6H指数:2
供职机构:沈阳大学机械工程学院更多>>
发文基金:留学人员科技活动项目择优资助经费国家自然科学基金辽宁省高等学校优秀人才支持计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇气致变色
  • 2篇WO
  • 2篇WO3薄膜
  • 1篇智能窗
  • 1篇转速
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇合金
  • 1篇合金结构
  • 1篇感器
  • 1篇NI-AL合...
  • 1篇
  • 1篇传感
  • 1篇传感器
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射沉积
  • 1篇NI-AL

机构

  • 3篇沈阳大学

作者

  • 3篇王美涵
  • 3篇王新宇
  • 3篇彭洋
  • 1篇王少洪
  • 1篇侯朝霞
  • 1篇胡小丹

传媒

  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇沈阳大学学报...
  • 1篇中国材料进展

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2016
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
磁控溅射沉积气致变色WO_3薄膜研究进展被引量:3
2016年
氧化钨薄膜因其特殊的物理化学性质,在智能窗、传感器等诸多新领域具有广泛的应用前景。为使WO_3薄膜气致变色特性得到良好的应用,需要制备新型纳米结构氧化钨薄膜。磁控溅射是工业制备WO_3薄膜的有效方法之一。掠射角磁控溅射是在传统磁控溅射基础上发展的新型薄膜制备技术,通过将衬底倾斜一定角度,可制备出具有高结晶度、大比表面积、排列规则的纳米结构WO_3薄膜。综述了氧分压、溅射功率及热处理等磁控溅射参数对WO_3薄膜组成、形貌、晶体结构等的影响,重点介绍了具有独特优势的掠射角磁控溅射技术,及利用其制备得到的纳米结构WO_3薄膜在智能窗和气体传感器等方面的应用,提出了掠射角磁控溅射制备纳米结构WO_3薄膜存在的问题及未来发展趋势。
温佳星王美涵彭洋王新宇侯朝霞王少洪胡小丹
关键词:WO3薄膜磁控溅射气致变色
纳米结构WO_3薄膜气致变色特性研究进展及应用被引量:3
2016年
三氧化钨(WO_3)薄膜具有许多特性,是一种优良的致色材料。纳米结构WO_3薄膜的着色效率高、可逆性好、响应时间短、光学调制高。综述纳米结构WO_3薄膜的化学沉积法和物理沉积法。化学沉积法可制备出多孔、片状和特殊形貌纳米结构WO_3薄膜。掠射角磁控溅射作为一种物理沉积方法,能够可控制备纳米柱状结构WO_3薄膜。其次,介绍WO_3薄膜的气致变色特性在气体传感器和智能窗等领域的应用。最后,对纳米结构WO_3薄膜气致变色特性改善提出展望,并指出其目前存在的问题及未来发展趋势。
王美涵温佳星彭洋王新宇
关键词:WO3薄膜传感器智能窗
铜辊转速对Ni-Al合金结构及其Raney-Ni催化剂对己二腈加氢性能的影响
2017年
采用单辊快速凝固法制备了一系列Ni-Al合金并活化成Raney-Ni催化剂.采用X射线衍射仪(XRD)、金相显微镜、X射线光电子能谱仪(XPS)、程序升温氧化(TPO)等表征了快速凝固Ni-Al合金及其活化后Raney-Ni催化剂的晶体结构和表面组成.考察了Raney-Ni催化剂对己二腈加氢反应的性能.结果表明,Ni-Al合金主要由NiAl3相、Ni_2Al_3相和微量NiAl相组成,不含有Al/NiAl3共晶相.铜辊转速为500r/min制备的Ni-Al合金含有较多Ni_2Al_3活性相,且Ni_2Al_3相畴较大.Raney-Ni催化剂主要由金属Ni和部分残留的Ni_2Al_3相组成.转速为500r/min的Ni-Al合金活化后所得催化剂残留的Ni_2Al_3相最少,活性Ni所占比例最高,且不易被氧化,因此表现出最佳的己二腈催化加氢性能.
王美涵彭洋温佳星王新宇
关键词:NI-AL合金
共1页<1>
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