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韩苗苗

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：江西现代职业技术学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇抛光
  • 1篇抛光垫
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光

机构

  • 1篇江西现代职业...

作者

  • 1篇章建群
  • 1篇匡伟春
  • 1篇韩苗苗

传媒

  • 1篇科技创新导报

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
化学机械抛光抛光垫研究进展
2010年
化学机械抛光(CMP)技术几乎是现今唯一的公认有效的全局平坦化技术,广泛应用在超大规模集成电路、计算机硬磁盘、微型机械系统等表面的平整化。本文综述了化学机械抛光抛光垫的研究现状。
章建群匡伟春韩苗苗
关键词：化学机械抛光抛光垫
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共1页<1>
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