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吴海华

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:苏州大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 1篇选择比
  • 1篇仪器
  • 1篇仪器维护
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇曲率半径
  • 1篇微纳加工
  • 1篇物相
  • 1篇物相分析
  • 1篇相分析
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇均匀性
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀速率
  • 1篇集成度
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀
  • 1篇高集成
  • 1篇高集成度
  • 1篇
  • 1篇AFM

机构

  • 4篇苏州大学

作者

  • 4篇吴海华
  • 3篇何小蝶
  • 3篇彭明发

传媒

  • 2篇实验科学与技...
  • 1篇科技视界
  • 1篇中阿科技论坛...

年份

  • 1篇2022
  • 2篇2015
  • 1篇2014
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
如何识别AFM成像过程中典型的针尖效应
2014年
AFM图像是利用超细的探针在样品的表面通过机械扫描获得的,成像质量的高低,很大程度上由于探针的形状决定的。本文主要讨论AFM成像过程中探针的针尖效应对成像质量的影响。
吴海华彭明发何小蝶
关键词:原子力显微镜曲率半径
硅的反应离子刻蚀实验研究
2015年
采用SF6和O2为刻蚀气体,在275m(torr)的反应压力下对硅进行了反应离子刻蚀实验研究。通过不断调节射频功率、刻蚀气体的流量等系列对比实验,研究、探索并优化了对硅的反应离子刻蚀工艺条件。实验研究得出的最优化条件:射频功率为120W,SF6和O2的流量为36cm3/s和6cm3/s。在该工艺条件下获得三个重要的刻蚀参数:刻蚀速率为1036nm/min,对氧化物的选择比为56.6,均匀性为4.41。
彭明发何小蝶吴海华
关键词:反应离子刻蚀刻蚀速率选择比均匀性
X射线粉末衍射仪的使用及维护被引量:1
2015年
X射线粉末衍射仪在材料分析中应用广泛,其中最常用的分析为物相分析。文中介绍了X射线粉末衍射仪的工作原理、衍射图谱的形成、仪器的主要组成等,并使用该仪器对试样进行测试和对测试谱图进行分析,阐述了仪器测试时条件的优化选择。此外,还介绍了X射线粉末衍射仪的一些日常维护、操作注意事项。
何小蝶彭明发吴海华
关键词:物相分析仪器维护
微纳加工与表征技术在高性能集成有机光电器件研究中的应用
2022年
微纳加工与表征技术是实现高性能集成光电器件的必要手段。基于有机半导体的光电器件具有可柔性化、低成本以及可溶液法制备的优势,可广泛应用于光探测、信息显示、健康监测、智能穿戴设备等领域。文章通过介绍可用于制备高性能集成光电器件的主流微纳加工与表征手段和技术原理,综述了其在高性能集成有机光电器件研究中的重要进展,结合研究实例对比分析了不同微纳加工与表征手段在实际研究中的优劣点。
朱文昌吴海华
关键词:高性能高集成度
共1页<1>
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