黄平
- 作品数：6 被引量：17H指数：3
- 供职机构：武汉工程大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金湖北省教育厅科学技术研究项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术化学工程更多>>
- MPCVD法制备光学级金刚石的研究
- 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石独特的物理化学特性使其能够满足机械、热学、微电子、光学等领域在耐磨性、热导率、光透过率等方面提出的苛刻要求,从而一直受到众多领域的科学研究者...
- 黄平
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石
- 文献传递
- 氮气体积浓度对高微波功率沉积金刚石膜的影响被引量：6
- 2015年
- 本研究在实验室自制的10kW圆柱形多模谐振腔式MPCVD装置中,研究了高功率沉积环境下,氮气在不同基片温度下对沉积的金刚石膜的影响。利用SEM表征对金刚石膜表面形貌的变化进行了分析,并结合Raman以及XRD的表征结果,分析了不同沉积温度下,氮气体积浓度与金刚石膜质量和晶粒尺寸间的关系。结果表明：引入氮气会同时起到提高沉积速率和增加二次形核的作用,并且金刚石膜的质量会随氮气体积浓度的增加而下降。随着基片温度的降低,N2对金刚石膜的影响将更多的表现为增加二次形核率。在基片温度为750℃时,通过研究不同氮气体积浓度下金刚石膜晶粒尺寸和结晶度的变化,得出当氮气体积浓度保持在0.03%-0.07%之间时,能获得晶粒尺寸为50nm左右且结晶度较好的纳米金刚石膜。
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- 关键词：高功率微波等离子体化学气相沉积金刚石膜
- 甲烷浓度对于金刚石膜二次形核的影响被引量：2
- 2016年
- 采用实验室研制的石英钟罩式MPCVD装置,在低功率(950 W)条件下,以H2-CH4为反应气源,在不同甲烷浓度下沉积了金刚石膜。利用扫描电子显微镜、激光拉曼光谱及X射线衍射仪等对金刚石膜二次形核现象进行了分析。实验结果表明:甲烷浓度变化对金刚石膜沉积过程中二次形核有不同程度的影响。甲烷浓度由1.0%上升到2.5%时,薄膜中二次形核现象逐渐增加,晶粒尺寸逐渐减小,金刚石相含量下降,晶面取向由(111)面转变为(220)面以及(311)面。
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- 关键词：微波等离子体金刚石膜
- 形核密度与氢等离子体处理对沉积CVD金刚石薄膜的影响被引量：1
- 2016年
- 本实验利用2kW微波等离子体化学气相沉积(CVD)设备,系统探究了不同形核密度和氢等离子体处理对CVD金刚石膜沉积的影响。利用扫描电镜、X射线衍射和Raman光谱对样品的形貌、结构和质量进行了表征,结果表明:形核密度越低,金刚石膜的晶粒尺寸越大,且随着时间的延长,较低形核密度和高形核密度下沉积的金刚石膜能分别获得<110>取向和<111>。当给予合适的生长环境,不同形核密度下沉积的金刚石膜均能获得较高的质量。因此,金刚石厚膜的沉积,可以考虑在低形核密度的环境下进行。另外,在相对较低的基片温度和腔体气压下进行氢等离子体处理,可以在保证金刚石膜表面CHx含量变化不大的情况下,充分减少金刚石膜表面或亚表面的非金刚石相,进一步地提高金刚石膜的质量。
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- 关键词：金刚石膜氢等离子体微波等离子体化学气相沉积
- 不同浓度氮气对于MPCVD法生长纳米金刚石薄膜的影响
- 2016年
- 采用微波等离子体化学气相沉积法，以N2／H2／CH4为气源，通过改变反应气氛中的Nz浓度（10％～30％）制备了金刚石薄膜。采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、x射线衍射仪等设备对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸以及薄膜质量进行了分析，研究了不同浓度氮气对于沉积金刚石薄膜的影响，结果表明：当氮气浓度低于30％时，沉积的金刚石薄膜晶粒尺寸变化不明显，表面平整度较好，氮气浓度达到30％时，金刚石晶粒增大，缺陷增加；随着氮气浓度增加，薄膜中金刚石相含量下降，同时，金刚石趋向于（111）面优先生长。
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- 关键词：微波等离子体化学气相沉积纳米金刚石氮气
- 微波法制备单晶金刚石的研究进展被引量：6
- 2016年
- 人工合成金刚石的方法主要有高温高压法和化学气相沉积法两种.高温高压法制备的金刚石尺寸小,无法避免金属杂质使得制备的金刚石应用受到限制.在所有的化学气相沉积中,微波等离子体化学气相沉积法具有无放电污染,能量转换效率高,工艺参数易于调节等优点.用微波等离子体化学气相沉积法制备大尺寸、高速率、高质量的单晶金刚石受到广泛重视.介绍了微波等离子体化学气相沉积单晶金刚石的制备工艺,对提高金刚石生长速率,扩大金刚石单晶尺寸两个方面的研究进展进行了综述,并对单晶金刚石的前景进行了展望.
- 黄平汪建华刘繁翁俊王小安
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积单晶金刚石
