芦刚
- 作品数：4 被引量：6H指数：2
- 供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 基于双掩模光刻机的真空复印机构与工艺研究
- 2022年
- 介绍了双面光刻机的类型、工作原理及特点,研究分析了双掩模光刻机的曝光方式,提出了一种通过改进曝光模式、提高双掩模光刻机曝光分辨率及基片曝光线条均匀性的方法,并通过生产线工艺验证及数据分析,得出通过该工艺曝光模式,满足生产线实际工艺要求。
- 芦刚毛善高李顺
- 半导体工艺与制造装备技术发展趋势被引量：3
- 2022年
- 针对半导体工艺与制造装备的发展趋势进行了综述和展望。首先从支撑电子信息技术发展的角度,分析半导体工艺与制造装备的总体发展趋势,重点介绍集成电路工艺设备、分立器件工艺设备等细分领域的技术发展态势和主要技术挑战。
- 周哲付丙磊董天波芦刚
- 关键词：半导体工艺集成电路工艺
- 临时键合和解键合工艺技术研究被引量：2
- 2021年
- 超薄晶圆的机械强度低,翘曲度高,为解决其支撑和传输过程中碎片率高的问题,同时也为提高产品良率及性能,通常采用临时键合和解键合的工艺方法。通过介绍临时键合工艺和解键合工艺技术,并根据工艺需求提出了临时键合设备和解键合设备的结构和原理。
- 胡晓霞郑如意邢莹芦刚
- 关键词：晶圆
- 立体端面光刻工艺研究被引量：1
- 2015年
- 立体端面的特种器件,要求在其单侧或者双侧表面光刻出有位置要求的图形。针对这一特种器件的要求,研制了一种可适应立体端面基体的对准工作台及楔形误差补偿机构,并根据立体端面的物理特性,在旋转涂胶法的基础上,研制了适应其涂胶工艺的装夹机构,通过工艺实验,验证了该光刻工艺的可行性。
- 芦刚周占福
- 关键词：涂胶光刻工艺
