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石剑

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：巴黎高等师范学院更多>>
发文基金：国家留学基金更多>>
相关领域：理学电子电信机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇英文
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇刻蚀
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻胶
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇参数优化
  • 1篇粗糙度

机构

  • 1篇西北工业大学
  • 1篇法国国家科研...
  • 1篇巴黎高等师范...

作者

  • 1篇刘正堂
  • 1篇陈静
  • 1篇石剑

传媒

  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文)被引量：1
2012年
报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射频功率、压强和气体流量对刻蚀形貌、表面粗糙度以及刻蚀速度的影响.在优化的工艺条件下,获得了理想的具有垂直侧壁形貌和较小表面粗糙度的纳米光栅阵列.结果表明,选择优化的刻蚀工艺参数,既能有效地改善图形转移的性能,同时也能提高所制备结构的光学应用特性.
陈静石剑刘正堂DECANINI DominiqueHAGHIRI-GOSNET Anne-Marie
关键词：反应离子刻蚀表面粗糙度
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共1页<1>
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