韦健华
- 作品数:1 被引量:2H指数:1
- 供职机构:深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金深圳市科技计划项目更多>>
- 相关领域:理学电子电信更多>>
- 表面处理对蓝宝石衬底的影响被引量:2
- 2011年
- 采用熔融的KOH溶液腐蚀蓝宝石衬底,获得具有三角形图案的腐蚀坑形貌,并对腐蚀坑的三角形形状给出了理论解释。在不同温度和不同的腐蚀时间进行对比结果分析,发现在280℃下腐蚀60 min左右,显示的位错清晰、准确,且最适合随后的横向外延生长。采用高分辨率双晶X线衍射(DCXRD)测试分析,结果表明,预处理对蓝宝石衬底的晶体质量和折射率色散关系几乎没影响,所以,预处理获得一定图案的蓝宝石可作为GaN横向外延的衬底,为降低GaN薄膜的位错密度,获得高质量的GaN薄膜提供有利的保障。
- 彭冬生董发韦健华金柯
- 关键词:蓝宝石衬底表面处理GAN