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郭启航

作品数:1 被引量:0H指数:0
供职机构:清华大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电学
  • 1篇电学特性
  • 1篇英文
  • 1篇碳膜
  • 1篇铜掺杂
  • 1篇蒙特卡罗模拟
  • 1篇掺杂

机构

  • 1篇清华大学

作者

  • 1篇张进宇
  • 1篇郭启航

传媒

  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 1篇2013
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
铜掺杂碳膜的蒙特卡罗模拟及其电学特性的计算(英文)
2013年
采用蒙特卡罗的方法模拟了铜掺杂碳膜的淀积过程。首先建立空间网格结构,通过在网格结构上随机降落原子来模拟薄膜的淀积过程。薄膜的电学特性通过解泊松方程来计算。仿真结果表明,薄膜表面的粗糙程度随着碳含量的上升而下降;含碳量为20%~25%的薄膜电阻很低而含碳量在60%~75%的薄膜电阻则很高。仿真结果与现有实验结果高度吻合,保证了仿真的正确性。
郭启航张进宇
关键词:电学特性蒙特卡罗模拟
共1页<1>
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