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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇多弧离子镀
  • 1篇离子镀
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数
  • 1篇TIALN
  • 1篇YG8
  • 1篇残余应力

机构

  • 1篇淮海工学院
  • 1篇江苏科技大学

作者

  • 1篇刘崇林
  • 1篇卢龙
  • 1篇张会霞
  • 1篇王振华

传媒

  • 1篇铸造技术

年份

  • 1篇2016
2 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
YG8离子镀TiAlN膜层的残余应力及工艺参数研究
2016年
采用多弧离子镀技术,在硬质合金刀具YG8基体上镀覆TiAlN膜层,研究最佳工艺参数、TiAlN膜层的残余应力,以及残余应力受沉积温度等因素的影响规律。结果表明,固定靶材电流为60 A,沉积时间为50 min时,最佳膜层性能的工艺参数为沉积温度100℃,氮气分压0.8 Pa,负偏压250 V。
张会霞刘崇林王振华卢龙
关键词:多弧离子镀残余应力工艺参数
共1页<1>
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